| 研究課題/領域番号 |
61880001
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| 研究種目 |
試験研究
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 研究分野 |
プラズマ理工学
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| 研究機関 | 東京大学 |
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研究代表者 |
二瓶 仁 東大, 工学部, 助手 (70010973)
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| 研究分担者 |
森川 惇二 東京大学, 工学部, 教務職員
井上 信幸 東京大学, 工学部, 教授 (60023719)
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| 研究期間 (年度) |
1986
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| 研究課題ステータス |
完了 (1986年度)
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| 配分額 *注記 |
3,000千円 (直接経費: 3,000千円)
1986年度: 3,000千円 (直接経費: 3,000千円)
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| キーワード | 磁界分布測定 / プラズマ / ビームプローブ / イオン源 |
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| 研究概要 |
本研究によって得られた成果は以下の如くである。
(1)逆転磁場ピンチ配位とトカマク配位プラズマ中に高速中性粒子ビームを打ち込んだ場合、荷電交換によって発生したイオンの軌道について計算機シミュレーションを行い、本研究に於ける磁界分布測定法が、特に前者の配位において有効な測定手段になることを示した。(2)計算機シミュレーションの結果を検証するために、水素ガスを用いたビームプローブ測定装置を設計製作した。本研究室にある小型トカマク装置にビームプローブ装置を装着し、荷電交換によって発生したイオンをファラデーカップで測定し、計算機シミュレーションの結果が正しいことを検証した。これによって本研究の方法の有効性を確認した。(3)本研究室で開発した低エネルギーイオン源用計算機シミュレーションコードを用いて、(2)に記したイオン源の設計,製作を行い略設計値に近いイオン加速電流を得ることができた(直径4mmφの単孔を用い加速電流約30mAを得た。)。これにより数をkeV〜10keV近辺の高電流密度イオン源引き出し部の設計手法に対する指針を得ることができた。(4)上述のビームプローブ装置は、又プラズマのイオン密度測定にも使用することができ、上記の小型トカマク装置で発生したプラズマのイオン密度測定を行った。マイクロ波干渉計による密度測定との比較を行ったが、両者は一致しており、本研究で設計、製作したビームプローブ測定装置が密度測定にも使用し得ることを検証した。
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