| 研究分担者 |
北澤 宏一 東京大学, 工学部, 教授 (90011189)
相澤 益男 東京工業大学, 工学部, 教授 (00016742)
田附 重夫 東京工業大学, 資源化学研究所, 教授 (20025993)
米山 宏 大阪大学, 工学部, 教授 (80029082)
本多 健一 京都大学, 工学部, 教授 (60013091)
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| 研究概要 |
光の時代と言われるように,先端技術の大部分はオプトエレクトロニクスに関係している. 光通信,光ディスク,光コンピュータ,光製版などでわかるように,光プロセスがこれからの大きな研究課題である. これら新しい技術をさらに発展させるためには,最適の材料を設計し,創成する必要がある. 分子あるいは半導体などの励起状態を作り出す方法として,光照射下での化学反応が重要となっており, 例えばアモルファスシリコン生成も光励起下の光CVD法が注目されている. 本総合研究では光励起化学反応に関して,その基礎的領域から応用的領域まで非常に層の厚い研究者を分担者として光励起状態の関わる諸問題に対する共同討論をおこなった. その結果"光精密制御のための化学的アプローチ"と題して重点研究を申請するべく準備した. この重点研究では光励起過程により化学プロセスを制御すること,また逆に物理・化学プロセスにより光を多面的に制御する手法を化学的に研究し,それらを統合して光を精密制御する化学的手法を開発することを目的としている. この重点研究は以下の3研究ラインにより構成する.
(1) 光制御を用いる高次化学プロセス
(2) 光機能のモレキュラーコントロール
(3) フォトンモードによる制御 すなわち,光を制御の対象および手段として位置づけ.
(a) 制御手段
(b) 制御対象
(c) 制御(手段+対象)
の3課題について化学的な立場から基礎的応用的手法を作り上げる.
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