| 研究課題/領域番号 |
62470058
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| 研究種目 |
一般研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 研究分野 |
金属材料
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| 研究機関 | 東京大学 |
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研究代表者 |
辻川 茂男 東京大学, 工学部, 教授 (20011166)
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| 研究分担者 |
篠原 正 東京大学, 工学部, 講師 (70187376)
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| 研究期間 (年度) |
1987 – 1988
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| 研究課題ステータス |
完了 (1988年度)
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| 配分額 *注記 |
2,300千円 (直接経費: 2,300千円)
1988年度: 200千円 (直接経費: 200千円)
1987年度: 2,100千円 (直接経費: 2,100千円)
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| キーワード | セラミックス / アルミナ / SiC / セラミックスの加工 / 複合研削 / 放電加工、電解放電複合研削加工法 / Sic / 放電加工 / 電解放電複合研削加工法 / O炭化珪素 / 加工 / 研削 / 電解放電研削複合加工 |
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| 研究概要 |
アルミナ焼結体(以下アルミナ)あるいは炭化珪素焼結体(以下SiC)を電解放電複合研削加工法で表面加工する際の、放電と電解の効果について調べた。試片を0.01〜1mol/lNaOH、HCl、H_3PO_4、NaH_2PO_4、Na_2HPO_4あるいは、Na_3PO_4水溶液中に浸漬し、これに加工電極であるW線あるいはPt-33%Ir線を100gfの力で押付けた。加工電極と対極(Pt)との間に加工電圧0〜300Vを30min負荷した。いずれの加工条件でも、加工電極の極性が負の場合に最大侵食深さが大きくなった。加工電極を正にした場合の最大侵食深さは負の場合のそれの1/10程度であった。以下では加工電極を負として実験を行った。加工痕の形状には2ケのタイプが観察された。最大侵食深さが大きい、すなわち加工量が多い場合には、最大侵食部は加工痕の中央であり、その断面はU型をしている(Type I)。一方、加工量が少ない場合には、加工痕の中央部はむしろ浅く、最大侵食部は加工痕のふちの部分であって、その断面はW型となる(Type II)。アルミナを加工する際には、いずれの電解質溶液においても濃度が高いほど、あるいは加工電圧が高いほど最大侵食深さは大きくなった。電解質およびその濃度ごとに臨界電圧が存在し、これより低い電圧ではType IIの加工痕に、高い電圧ではType Iの加工痕となった。この臨界電圧は最大侵食深さが急激に深くなる電圧および常時放電を開始する電圧とも一致する。アルミナの加工においては、まず粒界にたまった焼結助剤が侵食され、続いてアルミナ粒の脱離、さらにはアルミナ粒自体の侵食がおこるものと考えられる。アルミナの加工液としてはNa_3PO_4あるいはNa_2HPO_4水溶液が適していることがわかった。SiCの加工では、0.01および0.1mol/lNaOH水溶液中で大きな加工量が得られた。この場合にはSiC粒自体が侵食を受けていた。HCl水溶液中では反応生成物が堆積するため、加工電圧を高くしているとむしろ浅くなる傾向がみられた。
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