| 研究課題/領域番号 |
62470100
|
|---|
| 研究種目 |
一般研究(B)
|
| 配分区分 | 補助金 |
|---|
| 研究分野 |
高分子合成
|
|---|
| 研究機関 | 千葉大学 |
|---|
研究代表者 |
杉田 和之 千葉大学, 工学部, 助教授 (70009273)
|
|---|
| 研究分担者 |
小関 健一 千葉大学, 工学部, 助手 (70092054)
上野 信雄 千葉大学, 工学部, 助手 (40111413)
山岡 亜夫 千葉大学, 工学部, 教授 (60009256)
|
|---|
| 研究期間 (年度) |
1987 – 1988
|
| 研究課題ステータス |
完了 (1988年度)
|
| 配分額 *注記 |
3,000千円 (直接経費: 3,000千円)
1988年度: 1,100千円 (直接経費: 1,100千円)
1987年度: 1,900千円 (直接経費: 1,900千円)
|
|---|
| キーワード | レジスト / 光エッチング / 真空紫外光 / 光化学反応 / 表面光化学反応 / リソグラフィー / 高分子 |
|---|
| 研究概要 |
本研究の主目的は、高分子レジストの自己現像及び乾式剥膜を光照射のみによって実現するため、この光エッチングにおける反応生成物を固定することによりその反応機構を研究し、より高効率でエッチングするための条件を見いだす点にある。さらに、このエッチングに適した高分子レジストを開発するための知見を得ることも目的の一つにしている。これ等の目的に従って新しい実験装置の設計製作を行ない、種々の条件下で光エッチング実験を行ない、以下に示す結果を得た。
(1)高分子レジストの光エッチング生成物を質量分析法で研究しうる実験装置を製作した。この装置では、種々の光源を用いて光エッチングを行ない、レジストから放出された気体反応生成物を高感度で検出し固定を行なえる。
(2)主としてポリメチルメタクリレート(PMMA)の光エッチング生成物を光波長、温度等をパラメータとして検出、同定し、高効率エッチングには真空紫外光が極めて有効であること、さらに、真空中でのアンジッピングが天上温度よりはるかに低温で効率良く生じることを利用することが有効であること等を見いだした。
(3)フッ素気体ラジカル存在下での真空紫外光エッチング実験も合わせて行ない、高分子レジスト表面で光化学表面反応が実際に生じており、これにより光エッチング効率が促進されることを見い出した。
(4)以上の結果を総合的に考察することにより、エネルギー選択反応、位置選択反応が高分子レジストの光エッチングにおいて生じており、これらを利用することが今後の高分子レジストの乾式剥膜、自己光現像に重要であることがわかった。
|
