液晶磁場重合法による高配向ポリアセチレンの分子設計

• 研究課題/領域番号: 62750809
• 研究種目: 奨励研究(A)
• 配分区分: 補助金
• 研究分野: 高分子物性・高分子材料
• 研究機関: 筑波大学
• 研究代表者: 赤木 和夫 筑波大学, 物質工学系, 講師
• 研究期間 (年度): 1987
• 研究課題ステータス: 完了 (1987年度)
• 配分額: 900千円 (直接経費: 900千円); 1987年度: 900千円 (直接経費: 900千円)