| 配分額 *注記 |
33,600千円 (直接経費: 33,600千円)
1990年度: 4,000千円 (直接経費: 4,000千円)
1989年度: 9,300千円 (直接経費: 9,300千円)
1988年度: 20,300千円 (直接経費: 20,300千円)
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| 研究概要 |
本研究では,多層膜用の各種薄膜物質の光学定数や成膜基礎過程等の基盤的研究のうえに,各種軟X線用多層膜光学素子の開発を目指してきた.その結果は,次の4つにまとめられる.
1.多層膜光学素子に有用なSi,Mo,C,SiC,Rh,Ruなど15種類の薄膜試料について軟X線の光学定数を測定した.結果は,順次発表の予定である.(M.Yanagihara,J.Cao,M.Yamamoto,A.Arai,S.Nakayama,T.Mizuide,and T.Namioka:Optical Constans of superthin Gold Films for Soft XーRays,Rev.Sci.Instrum.60,pp・2014ー2017(1989))
2.合光電子集率測定によって薄膜の軟X線光学定数の決定を試みた.同一の試料について(1)の反射率の入射角依存性による測定を同時に行うことにより,えられたデ-タが信頼性の高いものであることを示すことができた.(平成3年春期応用物理学会予稿集)
3.多層膜に用いる各種物質の超薄膜について,成膜過程をエリプソメ-タ-でその場観測する事により,膜が島状構造から連続膜に到達する限界厚さを明らかにする新しい手法を開発し,その値を明らかにした.(M.Yamoto and T.Namioka:Inーsitu Ellipsometric Study of Optical Propeerties of Ultrathin Films,submitted to Appl.Opt.)
4.多層膜フイルタ-や多層膜偏光子等の新しい軟X線光学素子を開はし,これを用いて波長10nmの放射光の偏光状態の測定に成功した.この波長域の本格的な偏光測定は世界的にも例がない。(H.Kimura,T.Maehara,M.Yamamoto,M.Yanagihara,W.Okamoto,S.Mitani,and T.Namioka:Polarization of SR measured by soft xーray multilayer polarizers,to be published in Photon Factory Activity Report#8(1990))
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