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新規ラジカル受容体の開発と精密有機合成への応用

研究課題

研究課題/領域番号 63470077
研究種目

一般研究(B)

配分区分補助金
研究分野 合成化学
研究機関千葉大学

研究代表者

小倉 克之  千葉大学, 工学部, 教授 (60114253)

研究期間 (年度) 1988 – 1989
研究課題ステータス 完了 (1989年度)
配分額 *注記
5,400千円 (直接経費: 5,400千円)
1989年度: 700千円 (直接経費: 700千円)
1988年度: 4,700千円 (直接経費: 4,700千円)
キーワードラジカル付加 / ケテンジチオアセタ-ルS,S-ジオキシド / ビニルスルホン / ラジカル連鎖 / capto dative効果 / MT-スルホン / captodative効果 / ラジカル受容体 / ケテンジチオアセタールS-酸化体 / メチルチオメチルトリスp-スルホン / 分子間ラジカル付加 / 分子内ラジカル付加
研究概要

本研究では、ラジカル受容体として硫黄官能基置換オレフィンに着目し、そのラジカル受容能を検討、このものへの炭素ラジカル付加による炭素-炭素結合形成反応を開発し、硫黄部分の官能基変換反応と併せて高効率精密合成反応の確立を目指している。
これまでにケテンジチオアセタ-ルS,S-ジオキシドおよびビニルスルホン誘導体のラジカル受容能を研究し、この受容能の有機合成への利用についても検討を加え、以下の成果を挙げることができた。
1.ケテンジチオアセタ-ルS,S-オキシドは、アルキルラジカルに対して高効率受容体であることを明らかにした。相当するビニルスルホンに較べて、1-ヒドロギシアルキルラジカルに対して2.4倍、ヘキシルラジカルに対しては4倍の活性を示した。これは、ラジカル付加の遷移状態がスルホニル基とチオ基によるCapto dative効果による安定化を受けることによるものと考えられる。
2.ケテンジチオアセタ-ルS,S-ジオキシドの分子内ラジカル付加で極めて高い立体選択的環化が生起する。特に四員環生成という興味ある事実を見い出すとともに、立体制御因子の一つも解明した。
3.ビニルスルホンへのラジカル付加によって生成するラジカル種は、活性であることに着目し、連鎖機構によるラジカル付加を研究した。その結果、アルコ-ル中ラジカル開始剤(AIBN)存在下加熱または光照射で達成できることを見い出した。
4.ケテンジチオアセタ-ルS,S-ジオキシドへのラジカル付加によって得えられる付加体の有機合成化学的利用も研究した。付加体のジチオアセタ-ルS,S-ジオキシド部位のメチン炭素をアルキル化したのち酸化水分解することによって種々のケトンへ誘導できることを明らかにした。

報告書

(3件)
  • 1989 実績報告書   研究成果報告書概要
  • 1988 実績報告書
  • 研究成果

    (3件)

すべて その他

すべて 文献書誌 (3件)

  • [文献書誌] 小倉克之: "An Efficient Acceptor of 1-Hydroxy(or Alkoxy)alkyl Radicals--Ketene Dithioacetal S,S-Dioxideーー" Tetrahedron Letters. 29. 5387-5390 (1988)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1989 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Katsuyuki Ogura: "An Efficient Acceptor of 1-Hydroxy(or Alkoxy) alkyl Radicals -- Ketene Dithioacetal S,S-Dioxide --" Tetrahedron Letters. vol. 29, No. 42. 5387-5390 (1988)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1989 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] 小倉克之: Tstrahedron Letters. 29. 5387-5390 (1988)

    • 関連する報告書
      1988 実績報告書

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公開日: 1988-04-01   更新日: 2016-04-21  

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