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結晶中におけるラジカル発生過程のX線的研究

研究課題

研究課題/領域番号 63628006
研究種目

重点領域研究

配分区分補助金
研究機関姫路工業大学

研究代表者

安岡 則武  姫路工業大学, 工学基礎研究所, 教授 (40029054)

研究分担者 三浦 洋三  大阪市立大学, 工学部, 助手 (54731200)
研究期間 (年度) 1988
研究課題ステータス 完了 (1988年度)
配分額 *注記
1,500千円 (直接経費: 1,500千円)
1988年度: 1,500千円 (直接経費: 1,500千円)
キーワードチオアミニルラジカル / X線回折の迅速測定 / イメージングプレート
研究概要

チオアミニルラジカルの2量体、{C_6H_5SO_2ーNーC_6H_3(tーBu)_2}_2(1)および{C_6H_5SーNーC_6H_3(tーBu)_2}_2(2)の結晶を調製し結晶構造解析を行った。1、2を、それぞれヘキサン溶媒中より結晶化させ、六角板状、透明の結晶を得た。得られた結晶学的データを以下に示す。1;三斜晶系、空間群P1、a=10.303(1)、b=22.488(3)、c=10.261(1)A、α=92.93(1)、β=121.35(2)、γ=92.07(1)°、V=2023.31A^3、Z=2、D_0=1.13g/cm^32;斜方晶系、空間群Pcnb、a=17.400(1)、b=20.006(1)c=11.066(1)A、V=3852.12A^3、Z=4、D_0=1.1g/cm^3。1について、2θ<126°で得られた|Fo|>3σ(F)の独立な6885個の反射を用いて、ブロック対角近似最小自乗法による精密化の結果、最終のR値は0.12であった。2については、2θ<55°で得られた|Fo|>3σ(F)の独立な3522個の反射を用いて、現在精密化を行っており、R値は0.25である。1におけるーSーNーNーSーの二面角は、90°であり、これは互いのdi-t-Bu-Phenyl基とPhenyl sulfoneyl基が立体的に避け合うためと考えられる。一方、2については、di-t-Bu-Phenyl基の立体障害のため90°よりも大きく約115°であった。さらに両者の分子構造の違いは、1および2におけるーNーNー距離で、それぞれ1.385A、4.422Aであった。これは、N原子に結合するSO_2あるいはSの求電子性の差によるものである。すなわち、酸素原子が結合することによりNーN周辺の電子が少なくなり、その結果NーN結合距離が短くなるものと考えられる。現在、分子の末端部分よりむしろ、ーSーNーNーSー周辺を重点的に精密化を行っており、また置換基のdisorderについて検討を行っている。このような知見とラジカル発生との関連が考えられる。また、高速の測定を行うため、イメージングプレートを用いた測定システムの構築を行った。スーパーグラフィックワークステーシヨンと結合し、迅速にデータ処理を行うシステムを構築した。

報告書

(1件)
  • 1988 実績報告書
  • 研究成果

    (1件)

すべて その他

すべて 文献書誌 (1件)

  • [文献書誌] N.Yasuoka;Y.Miura: Bull.Chem.Soc.Japan.

    • 関連する報告書
      1988 実績報告書

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公開日: 1988-04-01   更新日: 2016-04-21  

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