| 研究課題/領域番号 |
63632511
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| 研究種目 |
重点領域研究
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 研究機関 | 東京工業大学 |
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研究代表者 |
小田 俊理 東京工業大学, 工学部, 助教授 (50126314)
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| 研究分担者 |
杉浦 修 東京工業大学, 工学部, 助手 (10187643)
松村 正清 東京工業大学, 工学部, 教授 (30110729)
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| 研究期間 (年度) |
1988
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| 研究課題ステータス |
完了 (1988年度)
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| 配分額 *注記 |
2,200千円 (直接経費: 2,200千円)
1988年度: 2,200千円 (直接経費: 2,200千円)
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| キーワード | プラズマ / 高周波プラズマ / VHF / プラズマ診断 / ECRプラズマ |
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| 研究概要 |
VHF帯のプラズマを世界で初めて発生させ、発光スペクトルの観測により、ラジガルの発生過程を調べ、磁界によりVHFプラズマがどのように制御できるかを明らかにした。
1.VHFプラズマの発生
プラズマの発生にはRFとマイクロ波のほぼ中間の周波数である144MHzを使用した。平行平板ダイオード型の電極(直径8cm、間隔3cm)に10〜150WのVHF電力を投入してプラズマ放電を実現させた。RF電力を投入した場合と比較しながら実験を進めた。
2.反応性ガスの検討
水素およびシランガスの放電を実験した。
3.プラズマ内部パラメーターの観察
プラズマ発光スペクトルを観測して内部パラメーター(生成される化学種)と外部制御パラメーター(ガス圧力、ガス流量、VHF電力など)との相関を調べた。シランガスの放電の場合、H、Si、SiHの各発光線強度が外部パラメーターに大きく依存すること、および、堆積される薄膜との特性と相関のあることが明らかにされた。また、VHFプラズマは、RFと比較してラジカル発生効率が高いことが明らかにされた。
4.VHFプラズマの制御
磁界を印加してECR(電子サイクロトロン共鳴)条件を満足させると、さらに効率的にプラズマを発生させることができた。この結果、低電力、低圧力でプラズマを維持することができるようになった。
5.今後の研究計画
反応性プラズマにおける周波数の効果をさらに明確にするため、プラズマ発光の空間分布を詳細に調べるとともに、プローブ測定により電子エネルギー分布特性を明らかにする。
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