高周波プラズマプロセスによる高温酸化物超伝導体の高速合成

• 研究課題/領域番号: 63750701
• 研究種目: 奨励研究(A)
• 配分区分: 補助金
• 研究分野: 金属製錬・金属化学
• 研究機関: 東京大学
• 研究代表者: 寺嶋 和夫 東京大学, 工学部, 助手
• 研究期間 (年度): 1988
• 研究課題ステータス: 完了 (1988年度)
• 配分額: 800千円 (直接経費: 800千円); 1988年度: 800千円 (直接経費: 800千円)