研究課題/領域番号 |
63880002
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研究種目 |
試験研究
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配分区分 | 補助金 |
研究分野 |
プラズマ理工学
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研究機関 | 九州大学 |
研究代表者 |
河合 良信 九州大学, 大学院総合理工学研究科, 教授 (10038565)
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研究分担者 |
田中 雅慶 九州大学, 大学院総合理工学研究科, 助手 (90163576)
小森 彰夫 九州大学, 大学院総合理工学研究科, 助教授 (50143011)
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研究期間 (年度) |
1988 – 1989
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研究課題ステータス |
完了 (1989年度)
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配分額 *注記 |
7,000千円 (直接経費: 7,000千円)
1989年度: 1,800千円 (直接経費: 1,800千円)
1988年度: 5,200千円 (直接経費: 5,200千円)
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キーワード | リジタ-ノコイル / ELRプラズマ / プラズマCVD / マイクロ波 / ECRプラズマ / リジターノコイル / 大口径プラズマ / スパッタリング |
研究概要 |
直径の大きいジタ-ノコイルを試作し、大口径ELRプラズマの生成及びそれによるELRプラズマCVD実験を行ない、次の成果を得た。 1.リジタ-ノコイルから放射される電磁場分布を小型アンテナを用いて測定することによるプラズマの生成機構を明らかにした。 2.上の結果をもとに、ECR共鳴点の制御による小型のリジタ-ノコイルでも直径の大きいECRプラズマを生成できることを示した。 3.比較的高い圧力領域で反応性プラズマを生成することに成功した。これまでは1mTorr以下の圧力でプラズマ生成してきたが、プラズマCVDとして使用するためには圧力がさらに高い領域でプラズマ生成する必要がある。マイクロ波のパワ-増強をはかることにより、20mTorr程度の圧力でもプラズマ生成することができた。 4.水素とメタンの混合ガスプラズマを生成し、シリコン基板上にカ-ボン薄膜を成膜した。5インチシリコンウエハ-上に一様な膜が得られた。また、成膜速度の圧力、混合比、基板温度への存在性を調べた。 以上の結果より、本研究で試作した大口径リジタ-コイルは、プラズマCVD用プラズマ源として適していることがわかった。さらに、現在、産業界で切望されているECRプラズマの大口径に大きく貢献するものと考えれる。
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