超音速フリージェットによるシリコンカーバイド薄膜の形成に関する基礎的研究

• 研究課題/領域番号: 96J00720
• 研究種目: 特別研究員奨励費
• 配分区分: 補助金
• 応募区分: 国内
• 研究分野: 応用物性・結晶工学
• 研究機関: 九州大学
• 研究代表者: 生駒 嘉史
• 研究期間 (年度): 1998
• 研究課題ステータス: 完了 (1998年度)
• 配分額: 900千円 (直接経費: 900千円); 1998年度: 900千円 (直接経費: 900千円)