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Ta系酸窒化物強誘電体の活性サイトとしてのTaO4N2八面体の構造解明

公募研究

研究領域3D活性サイト科学
研究課題/領域番号 15H01043
研究種目

新学術領域研究(研究領域提案型)

配分区分補助金
審査区分 理工系
研究機関東京大学

研究代表者

廣瀬 靖  東京大学, 大学院理学系研究科(理学部), 准教授 (50399557)

研究期間 (年度) 2015-04-01 – 2017-03-31
研究課題ステータス 完了 (2016年度)
配分額 *注記
5,590千円 (直接経費: 4,300千円、間接経費: 1,290千円)
2016年度: 2,990千円 (直接経費: 2,300千円、間接経費: 690千円)
2015年度: 2,600千円 (直接経費: 2,000千円、間接経費: 600千円)
キーワード複合アニオン化合物 / エピタキシャル薄膜 / 配位化学 / 酸窒化物 / 強誘電体 / 光触媒 / 複合アニオン酸化物 / エピタキシー / 光電変換
研究実績の概要

ペロブスカイト型酸窒化物SrTaO2Nはバルクでは常誘電体だが、正方晶歪みを印可したエピタキシャル薄膜では室温強誘電性を示すことから、極性反転可能な光電変換素子などへの応用が期待されている。本研究では、SrTaO2Nの強誘電性の起源として、TaO4N2八面体のアニオン配列に注目し、正方晶歪みとの関係の解明に取り組んだ。

H27年度までの成果として、正方晶歪みによって強誘電性の準安定なtrans型配列が安定化することを第一原理計算で明らかにした。さらに、SrTaO2N/SrTiO3より大きな正方晶歪みを有するSr0.5Ca0.5TaO2N/SrTiO3の合成に成功し、直線偏光X線吸収(LPXAFS)測定によって、アニオンサイト(axial/equatorial)の占有率にOとNで偏りがあることを見出した。

H28年度は、Sr/Ca比を振って正方晶歪みを連続的に変えたSr1-xCaxTaO2N/SrTiO3およびSr1-xCaxTaO2N/DyScO3を作成し、正方晶歪みとアニオンサイト占有率の関係を評価した。その結果、正方晶歪みの印可によって窒素のaxialサイト占有率が単調増加し、最大で約50%に達することを明らかにした。また、STEM-EELSによるサイト選択組成分析でも占有率を評価し、定量的に一致する結果を得た。次に、このサイト占有率の変化がtrans型配列とcis型配列の配向変化(秩序化)のいずれに起因するかを明らかにするために、第一原理計算でシミュレーションしたLPXAFSスペクトルと比較した。実験で得られたLPXAFSスペクトルの形状はtrans型配列のシミュレーション結果と良い一致を示し、正方晶歪みに伴うtrans型のアニオン配列の形成が確認された。以上より、SrTaO2Nエピタキシャル薄膜の強誘電性はtrans型アニオン配列に起因することが実証できた。

現在までの達成度 (段落)

28年度が最終年度であるため、記入しない。

今後の研究の推進方策

28年度が最終年度であるため、記入しない。

報告書

(2件)
  • 2016 実績報告書
  • 2015 実績報告書
  • 研究成果

    (7件)

すべて 2017 2016 2015 その他

すべて 雑誌論文 (2件) (うち査読あり 2件、 謝辞記載あり 2件) 学会発表 (4件) (うち国際学会 2件、 招待講演 4件) 備考 (1件)

  • [雑誌論文] Strain engineering for anion arrangement in perovskite oxynitrides2017

    • 著者名/発表者名
      D. Oka, Y. Hirose, F. Matsui, H. Kamisaka, T. Oguchi, N. Maejima, H. Nishikawa, T. Muro, K. Hayashi, and T. Hasegawa
    • 雑誌名

      ACS Nano

      巻: 11 号: 4 ページ: 3860-3866

    • DOI

      10.1021/acsnano.7b00144

    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
    • 査読あり / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] Strong Carrier Localization in 3d Transition Metal Oxynitride LaVO3-xNx Epitaxial Thin Films2017

    • 著者名/発表者名
      M. Sano, Y. Hirose, S. Nakao, and T. Hasegawa
    • 雑誌名

      J. Mater. Chem. C

      巻: 5 号: 7 ページ: 1798-1802

    • DOI

      10.1039/c6tc04160d

    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
    • 査読あり / 謝辞記載あり
  • [学会発表] 薄膜合成を利用した遷移金属酸窒化物の機能探索2017

    • 著者名/発表者名
      廣瀬 靖
    • 学会等名
      材料設計討論会
    • 発表場所
      東京工業大学すずかけ台キャンパス(神奈川県横浜市)
    • 年月日
      2017-03-07
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] 複合アニオン化合物の薄膜合成2016

    • 著者名/発表者名
      廣瀬 靖
    • 学会等名
      新学術研究領域 複合アニオン化合物の創製と新機能 第一回トピカル会議
    • 発表場所
      産業技術総合研究所(茨城県つくば市)
    • 年月日
      2016-10-24
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] Electrical functionalities of oxynitride epitaxial thin films2015

    • 著者名/発表者名
      Yasushi Hirose
    • 学会等名
      CEMS Topical Meeting on Oxide Interfaces
    • 発表場所
      理化学研究所大河内ホール(埼玉県・和光市)
    • 年月日
      2015-11-16
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Electrical Properties of Oxynitride Semiconductor Thin Films Fabricated by Using Pulsed Laser Deposition2015

    • 著者名/発表者名
      Yasushi Hirose, Takanori Yamazaki, Atsushi Suzuki, Daichi Oka, Shoichiro Nakao, Tetsuya Hasegawa
    • 学会等名
      9th International Symposium on Transparent Oxide and Related Materials for Electronics and Optics (TOEO-9)
    • 発表場所
      つくば国際会議場(茨城県・つくば市)
    • 年月日
      2015-10-21
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [備考] 配位構造の異なる酸窒化物結晶の作り分けに成功―格子歪みを使って酸素と窒素の並び方をコントロール―

    • URL

      https://www.s.u-tokyo.ac.jp/ja/press/2017/5317/

    • 関連する報告書
      2016 実績報告書

URL: 

公開日: 2015-04-16   更新日: 2018-03-28  

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