| 研究領域 | 高難度物質変換反応の開発を指向した精密制御反応場の創出 |
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| 研究課題/領域番号 |
18H04273
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| 研究種目 |
新学術領域研究(研究領域提案型)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 研究機関 | 東京工科大学 |
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研究代表者 |
原 賢二 東京工科大学, 工学部, 教授 (10333593)
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| 研究期間 (年度) |
2018-04-01 – 2020-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2019年度)
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| 配分額 *注記 |
6,240千円 (直接経費: 4,800千円、間接経費: 1,440千円)
2019年度: 3,120千円 (直接経費: 2,400千円、間接経費: 720千円)
2018年度: 3,120千円 (直接経費: 2,400千円、間接経費: 720千円)
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| キーワード | 触媒・化学プロセス / 合成化学 / 金属錯体 / 単分子層 / メソポーラス有機シリカ / 触媒 / 固定化 |
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| 研究実績の概要 |
本研究では、触媒調製の新しいアプローチとして、領域内で開発されている金属錯体を構造が規整された固体表面上に精密に固定化するとともに、固体表面の特性を活用して周辺反応空間の緻密な分子設計を施すことにより、従来にない高機能な触媒反応場を構築することを目的とした。
本年度は、固定化に用いる担体材料が有する表面特性やナノ細孔空間を活用した特異な選択性の発現を目指すとともに、活性中心近傍の分子レベルの緻密な化学修飾による選択性の制御が可能となる精密な触媒反応場の創成手法を確立することに注力した。具体的には、前年度の検討において良好な活性が得られたメソポーラス有機シリカ(PMO)の細孔表面へのイリジウム錯体の固定化系について、特異な選択性の発現と制御を目指した緻密な反応場設計を行った。また、金表面上に形成した高密度なジイソシアニド単分子層を介して固定化した金属錯体の系についても、前年度の検討結果を踏まえて、特異な選択性の発現と制御を目指した緻密かつ系統的な反応場設計を実施した。
その結果、平滑な金属基板上に高密度に金属錯体を集積する手法を応用して、領域内で開発されている種々の金属錯体を固定化する手法の確立に成功した。また、特異な触媒特性が期待される複数の複合ナノ構造を構築する手法を確立した。これらの研究成果の一部について、国内外で開催された学会において発表（招待講演、一般口頭発表、ポスター発表）を行った。
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| 現在までの達成度 (段落) |
令和元年度が最終年度であるため、記入しない。
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| 今後の研究の推進方策 |
令和元年度が最終年度であるため、記入しない。
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