| 研究領域 | 配位プログラミング ― 分子超構造体の科学と化学素子の創製 |
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| 研究課題/領域番号 |
24108709
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| 研究種目 |
新学術領域研究(研究領域提案型)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 審査区分 |
理工系
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| 研究機関 | 東京大学 |
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研究代表者 |
内田 さやか 東京大学, 総合文化研究科, 准教授 (10361510)
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| 研究期間 (年度) |
2012-04-01 – 2014-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2013年度)
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| 配分額 *注記 |
7,150千円 (直接経費: 5,500千円、間接経費: 1,650千円)
2013年度: 3,380千円 (直接経費: 2,600千円、間接経費: 780千円)
2012年度: 3,770千円 (直接経費: 2,900千円、間接経費: 870千円)
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| キーワード | ナノ材料 / 複合材料・物性 / 自己組織化 / 触媒化学プロセス / 触媒・化学プロセス |
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| 研究概要 |
資源の少ない我が国において、エネルギーや物質の有効利用を可能にする環境調和型かつ高機能な材料の開発は、重要な課題の一つである。本研究では、金属の核数と距離が精密に規定された金属酸化物クラスターの配列制御による機能性固体（吸着分離、吸蔵、触媒
、イオン伝導、磁性・電子材料）の構築を、サブナノ～ミクロンレベルで行うことを目的とした。当該領域「配位プログラミング」が目指す「機能階層的な超構造体を設計通り精密に組み上げる」、「分子機能を組織化して高効率出力するナノサイズ化学素子の開発」
という目的と合致する。平成25年度の主な成果として、(1)三次元細孔を有するイオン結晶の合成とアセチレン及び二酸化炭素の選択的吸着、(2)二次元層構造を有するイオン結晶の合成と無機ガス・低級炭化水素ガスの吸着分離、(3)ポストシンセシスにより細孔体積の増加と吸着量の増加、が挙げられる。(1)(2)と昨年度の成果により、イオン結晶における細孔構造の次元性の制御（１から３次元）に成功したことが最も大きなトピックスである。
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| 現在までの達成度 (区分) |
理由
25年度が最終年度であるため、記入しない。
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| 今後の研究の推進方策 |
25年度が最終年度であるため、記入しない。
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