インターカレーション技術を用いた磁性の制御と新規開拓

• 研究領域: ２．５次元物質科学：社会変革に向けた物質科学のパラダイムシフト
• 研究課題/領域番号: 24H01212
• 研究種目: 学術変革領域研究(A)
• 配分区分: 補助金
• 審査区分: 学術変革領域研究区分(Ⅱ)
• 研究機関: 東京大学
• 研究代表者: 松岡 秀樹 東京大学, 生産技術研究所, 特任助教 (20897681)
• 研究期間 (年度): 2024-04-01 – 2026-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2025年度)
• 配分額: 11,830千円 (直接経費: 9,100千円、間接経費: 2,730千円); 2025年度: 5,850千円 (直接経費: 4,500千円、間接経費: 1,350千円); 2024年度: 5,980千円 (直接経費: 4,600千円、間接経費: 1,380千円)
• キーワード: ファンデルワールス物質 / 磁性 / インターカレーション

研究開始時の研究の概要

ファンデルワールス(VdW)物質は、二次元系特有の物性が発現する場として近年注目を集
めている。その背景には、VdW物質群の豊富さ、さらにはそこで発現する物性の多様さがあ
る。本研究では、こういったVdW物性の物質設計を拡張するアイデアとして、層間に原子を
挿入するインターカレーション技術に注目する。本研究のでは、VdW物質(遷移金属ダイカルコゲナイド)の層間に磁性元素をインターカレートした磁性元素インターカレート物質において、これらの薄膜やFIBデバイスに対してリチウムイオンゲートを適用することで磁性のゲート制御・新奇磁性相の開拓を行う。