金属クラスター光触媒による易酸化性官能基を有するカルボン酸からのラジカル発生制御

• 研究領域: 炭素資源変換を革新するグリーン触媒科学
• 研究課題/領域番号: 24H01853
• 研究種目: 学術変革領域研究(A)
• 配分区分: 補助金
• 審査区分: 学術変革領域研究区分(Ⅱ)
• 研究機関: 大阪大学
• 研究代表者: 劔 隼人 大阪大学, 大学院工学研究科, 教授 (60432514)
• 研究期間 (年度): 2024-04-01 – 2026-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2024年度)
• 配分額: 7,020千円 (直接経費: 5,400千円、間接経費: 1,620千円); 2024年度: 3,510千円 (直接経費: 2,700千円、間接経費: 810千円)
• キーワード: 光触媒 / カルボン酸 / 易酸化性官能基 / ラジカル発生 / 金属クラスター錯体

研究開始時の研究の概要

有機合成化学における重要な化学種であるラジカルの発生法として、フェノール等の易酸化性の官能基を有する天然カルボン酸を原料とすることは、カルボキシルラジカルへの酸化の段階において副反応を併発することから非常に困難である。本研究では、カルボキシル基にオルソゴナルな反応により選択的にカルボキシルラジカルを得る方法として、カルボン酸と金属錯体により生じる金属カルボキシラート錯体の金属－配位子間結合の均等開裂を経るラジカル発生制御と新反応の開発に取り組む。