インコヒーレント界面が拓く超セラミックス薄膜の創製と機能開拓

• 研究領域: 超セラミックス：分子が拓く無機材料のフロンティア
• 研究課題/領域番号: 25H01645
• 研究種目: 学術変革領域研究(A)
• 配分区分: 補助金
• 審査区分: 学術変革領域研究区分(Ⅱ)
• 研究機関: 東京大学
• 研究代表者: 簾 智仁 東京大学, 大学院理学系研究科(理学部), 特任助教 (40783923)
• 研究期間 (年度): 2025-04-01 – 2027-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2025年度)
• 配分額: 5,460千円 (直接経費: 4,200千円、間接経費: 1,260千円); 2025年度: 2,730千円 (直接経費: 2,100千円、間接経費: 630千円)
• キーワード: エピタキシャル薄膜 / トポタキシー / 格子間イオン / 超セラミックス / 偏光XAFS

研究開始時の研究の概要

超セラミックスをエピタキシャル薄膜化することで、分子性ユニットの向き・配列・動的特性の異方性を活用した機能開拓が期待できる。しかし、対称性の低い結晶構造や高温・真空での不安定性のため、エピタキシャル成長は困難であった。申請者はこれまでに、薄膜と基板の界面結合強度が弱いインコヒーレント界面を活用し、“内圏型”超セラミックスである層状(酸)水酸化物のエピタキシャル薄膜化に成功している。本研究は、このアイディアを発展させ、インコヒーレント界面を活用した超セラミックスエピタキシャル薄膜の合成技術を確立し、高い構造自由度に基づく新しい機能の開拓を実現する。