| 研究領域 | 原子層科学 |
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| 研究課題/領域番号 |
26107504
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| 研究種目 |
新学術領域研究(研究領域提案型)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 審査区分 |
理工系
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| 研究機関 | 東北大学 |
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研究代表者 |
藤田 武志 東北大学, 原子分子材料科学高等研究機構, 准教授 (90363382)
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| 研究期間 (年度) |
2014-04-01 – 2016-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2015年度)
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| 配分額 *注記 |
7,020千円 (直接経費: 5,400千円、間接経費: 1,620千円)
2015年度: 3,510千円 (直接経費: 2,700千円、間接経費: 810千円)
2014年度: 3,510千円 (直接経費: 2,700千円、間接経費: 810千円)
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| キーワード | 原子層 / MoS2 / グラフェン / ダイカルコゲナイト / ReS2 |
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| 研究実績の概要 |
本研究目的は、面内に超格子構造を有する原子層材料を領域内で多角的に研究することで、新しい基礎知見を共有し、新しいアプリケーションへ展開することである。昨年度は、これまで報告例のなかったReS2粉末からリチウムインターカレーションによる化学剥離により、ReS2ナノシートの作製に成功し、従来の半導体ナノシートにはない特性を有していることが明らかとなった。
本年度は、化学気相蒸着法にてMoxW(1-x)S2の単層材料の作製に取り組んだ。炉内の温度雰囲気や流量、原料粉末を調整することで、効率的にMoxW(1-x)S2単層試料をガラス基板上に作製することに成功した。作製した単層材料は、xの比率を制御することができ、これによってPhotoluminescence強度のピーク位置を610から650nmまで可変することできた。
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| 現在までの達成度 (段落) |
27年度が最終年度であるため、記入しない。
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| 今後の研究の推進方策 |
27年度が最終年度であるため、記入しない。
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