| 研究領域 | 植物の成長可塑性を支える環境認識と記憶の自律分散型統御システム |
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| 研究課題/領域番号 |
15H05963
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| 研究種目 |
新学術領域研究(研究領域提案型)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 審査区分 |
生物系
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| 研究機関 | 東京大学 (2016-2019)
国立遺伝学研究所 (2015) |
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研究代表者 |
角谷 徹仁 東京大学, 大学院理学系研究科(理学部), 教授 (20332174)
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| 研究期間 (年度) |
2015-06-29 – 2020-03-31
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| キーワード | ヒストン修飾 / 環境応答 / ヒストンバリアント / DNAメチル化 / 非コードRNA |
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| 研究成果の概要 |
環境条件を反映して、遺伝子のON/OFF状態はクロマチン上に記憶される。この記憶の実体はDNAやヒストンの修飾である。これらの修飾は転写制御領域として知られるプロモーターだけではなく、遺伝子の内部にも見つかるが遺伝子内部の修飾の役割は大部分未解明である。本研究では、遺伝子内部の修飾を制御する因子とその役割を遺伝学的に調べた。その結果、ヒストンH3のリジン４のモノメチル化（H3K4me1）が、転写の恒常的抑制や、低温環境の記憶、および病害応答性に関わることが明らかになった。
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| 自由記述の分野 |
植物遺伝学
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| 研究成果の学術的意義や社会的意義 |
植物にとって、病原応答性の記憶や季節応答性の記憶は重要であるが、その機構は大部分が未開拓である。本研究では、良く研究されているプロモーター付近でなく、遺伝子内部の修飾と表現型とのつながりを遺伝学的に調べることにより、転写状態の長期記憶に関わるヒストン脱メチル化因子の役割と制御を明らかにした。
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