| 研究領域 | 非平衡ソフトマター物理学の創成に関する総括研究 |
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| 研究課題/領域番号 |
18068006
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| 研究種目 |
特定領域研究
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 審査区分 |
理工系
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| 研究機関 | 東京大学 |
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研究代表者 |
土井 正男 東京大学, 大学院・工学系研究科, 教授 (70087104)
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| 研究分担者 |
奥薗 透 名古屋市立大学, 大学院・薬学研究科, 准教授 (10314725)
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| 連携研究者 |
山口 哲生 東京大学, 大学院・工学系研究科, 助教 (20466783)
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| 研究期間 (年度) |
2006 – 2010
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| キーワード | 乾燥プロセス / 薄膜 / ゲル化 / シミュレーション |
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| 研究概要 |
固体基板上の高分子溶液の乾燥過程における薄膜形成のメカニズムおよび乾燥後の薄膜形状の予測・制御に関する実験および理論・シミュレーションによる研究を行い、以下の成果を得た。蒸発速度に対する弾性効果を考慮し、乾燥時に溶液の表面にできるゲル状の皮膜の形成条件を明らかにした。薄膜形状の初期条件依存性および気相中の蒸気の影響を明らかにした。薄膜形状の制御に関するいくつかの方法を提案した。
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