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2008 年度 実績報告書

高Al組成AlGaNのエピタキシャル成長と欠陥制御技術

計画研究

研究領域窒化物光半導体のフロンティア-材料潜在能力の極限発現-
研究課題/領域番号 18069006
研究機関三重大学

研究代表者

平松 和政  三重大学, 大学院・工学研究科, 教授 (50165205)

研究分担者 三宅 秀人  三重大学, 大学院・工学研究科, 准教授 (70209881)
元垣内 敦司  三重大学, 大学院・工学研究科, 助教 (00303751)
キーワード窒化物半導体 / AlGaN / 反り / 転位密度 / クラック / a面 / MOVPE / HVPE
研究概要

高性能な紫外線発光素子や紫外線受光素子を作製するためには、高いAlNモル分率を有するAlGaNが必要であるが、高品質な結晶を得るためには、クラックフリーで低転位密度化の他に、結晶成長中に発生する基板の反りの抑制が必要である。本研究では、基板の反りのその場観察を行いながら、サファイア基板上への高品質AlGaNのMOVPE成長を行った。これと並行して、高性能な紫外線発光デバイス実現に向けた高品質な厚膜AlNバルク単結晶や高品質a面GaN, AlN, AlGaNを得るための実験も行った。
サファイア基板上にAlGaNよりも格子定数が小さいAlNを成長させたAlNテンプレートを用いることで、AlGaN成長前に存在した基板の反りが減少することがわかったので、基板の反りが少なくなるようにAlGaNを成長させるためには、AlNテンプレートが必要であることがわかった。また、AlN上のAlGaN成長結晶におけるAl組成が、界面では表面より低くなり、これを改善するために、原料ガスの流量の詳細な制御が必要であることがわかった。
また、反射光モニタリング装置を用いて、MOVPE結晶成長条件を詳細に検討することで、r面サファイア上に表面の平坦製に優れたa面GaN, AlN, AlGaNを得ることができた。
さらにサファイア上にエピタキシャル成長したAlNに周期的な溝を加工し、HVPE法によりAlNの厚膜成長を行うことで、表面の平坦性に優れ、転位密度が従来のAlNバルク単結晶より1桁少ない高品質なAlNバルク単結晶を得ることができた。

  • 研究成果

    (12件)

すべて 2009 2008 その他

すべて 雑誌論文 (6件) (うち査読あり 6件) 学会発表 (4件) 備考 (2件)

  • [雑誌論文] Selective Area Growth of III-Nitride and Their Application for Emitting Devices2008

    • 著者名/発表者名
      K. Hiramatsu, H. Miyake and D. Li
    • 雑誌名

      Journal of Light & Visual Environment 32

      ページ: 177-182

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Improved surface morphology of flow-modulated MOVPE grown AlN on sapphire using thin medium-temperaturl A1N buffer layer2008

    • 著者名/発表者名
      D. Li, M. Aoki, H. Miyake and K. Hiramatsu
    • 雑誌名

      Physica Status Solidi c 5

      ページ: 1818-1821

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Improved optical properties of AlGaN using periodic structures2008

    • 著者名/発表者名
      H.Miyake, T. Ishii, A. Motogaito and K.Hiramatsu
    • 雑誌名

      Physica Status Solidi c 5

      ページ: 1822-1824

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Thermal analysis of GaN powder formation via reaction of gallium ethylenediamine tetraacetic acid complexes with ammonia2008

    • 著者名/発表者名
      Y. Liu, S.Koide, H.Miyake, K.Hiramatsu, et.al.
    • 雑誌名

      Physica Status Solidi c 5

      ページ: 1522-1524

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Growth of crack-free AlGaN ons elective-area-growth GaN2008

    • 著者名/発表者名
      H. Miyake, N.Masuda, Y. Ogawahara, M. Narukawa, K.Hiramatsu, et.al.
    • 雑誌名

      Journal of Crystal Growth 310

      ページ: 4885-4887

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Reactor-pressure dependence of growth of a-plane GaN on r-plane sapphire2008

    • 著者名/発表者名
      R. Miyagawa, M. Narukawa, B. Ma, H. Miyake and K. Hiramatsu
    • 雑誌名

      Journal of Crystal Growth 310

      ページ: 4979-4982

    • 査読あり
  • [学会発表] HVPE growth of AlN on trench patterned sapphire2009

    • 著者名/発表者名
      H.Miyake, Y.Katagiri, K.Okuura, K.Hiramatsu
    • 学会等名
      SPIE Photonic West
    • 発表場所
      San Jose, CA, USA(招待講演)
    • 年月日
      2009-01-26
  • [学会発表] HVPE Growth of Crack-free Thick AlN Using Strain-Control Technique2008

    • 著者名/発表者名
      H.Miyake, Y.Katagiri, S.Kishino, K.Okuura, and K. Hiramatsu
    • 学会等名
      International Workshop on Nitride Semiconductors 2008
    • 発表場所
      Montreux, Swiss
    • 年月日
      2008-10-08
  • [学会発表] Growth of crack-free AlGaN on selective area growth GaN2008

    • 著者名/発表者名
      H.Miyake, N. Masuda, Y. Ogawahara, M.Narukawa, K.Hiramatsu, et.al.
    • 学会等名
      14th International Conference on Metal organic vapor phase epitaxy
    • 発表場所
      Metz, France
    • 年月日
      2008-06-04
  • [学会発表] ファセット制御ELO法による窒化物半導体のエピタキシャル成長2008

    • 著者名/発表者名
      三宅秀人, 平松和政
    • 学会等名
      日本学術振興会マイクロビームアナリシス第141委員会
    • 発表場所
      三重大学(招待講演)
    • 年月日
      2008-05-13
  • [備考] (研究室HP)

    • URL

      http://www.opt.elec.mie-u.ac.jp

  • [備考] (三重大学極限ナノエレクトロニクスセンターHP)

    • URL

      http://www.mie-u.ac.jp/research/intro/ct0003-00.html

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公開日: 2010-06-11   更新日: 2016-04-21  

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