計画研究
特定領域研究
金属系薄膜においてレーザーで励起した電子がスピン系に緩和する際に誘起するスピンのダイナミクス観測を行う.また強磁性共鳴を用いたスピン流の生成と磁気緩和に関する系統的な測定を行う.これらにより金属強磁性体におけるスピン緩和のメカニズムを明らかにすることを目指す.具体的には(1) 高品位薄膜およびトンネル接合の作製(2) 高スピン分極率,低磁気緩和定数ホイスラー薄膜のスピンダイナミクス(3) ホットエレクトロンの注入とスピン流(4) 強磁性共鳴と磁気緩和,を行う.
すべて 2010 2009 その他
すべて 雑誌論文 (5件) (うち査読あり 5件) 学会発表 (5件) 図書 (1件) 備考 (1件) 産業財産権 (1件)
Appl. Phys. Exp. 2
ページ: 093001-1-3
Appl. Phys. Lett. 94
ページ: 252503-1-3
Appl. Phys. Lett. 48
ページ: 122503-1-3
J. Appl. Phys. 105
ページ: 07D306-1-3
ページ: 122504-1-3
http://www.apph.tohoku.ac.jp/spin/