| 研究概要 |
高等植物の根系構築の基礎となる根端メリステムの発生機構を解明することを目的として、1)オーキシン応答転写因子ARFs,Aux/IAAs,オーキシン誘導性LBD/ASLタンパク質などを介した側根形成開始の分子カスケードの解析、および、2)側根メリステム形成・維持の分子機構の解析を行い、以下の成果を得た。(1)シロイヌナズナにおけるLBD16を介した側根形成の分子カスケードを明らかにする目的で、arf7arf19二重変異体の側根形成能をデキサメタゾン依存的に回復させるLBD16過剰発現体を用いて、マイクロアレイ解析によるLBD16の下流遺伝子の探索を行った。その結果、ARF7,LBD16によって正に制御され、かつslr変異によって負に制御される遺伝子を29個同定した。このうちARF7,LBD16,LBD29との共発現データから絞り込んだ11遺伝子について、発現解析を進めた。(2)側根形成能が低下するcrane変異体の表現型解析を行い、原因遺伝子がIAA18であることを確認した。crane変異体における細胞周期マーカーの発現解析から、IAA18が側根形成開始を負に制御することを明らかにした。(3)側根メリステムの維持に欠損のある新奇変異体LR11-4に関して表現型解析を行い、原因遺伝子が側根メリステムの維持に関わることを示した。また、マッピングによる原因遺伝子の同定作業を進めた。さらに側根メリステム維持における原因遺伝子の役割を明らかにするために、根端メリステムや側根原基マーカー遺伝子を変異体に導入した。
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