| 研究領域 | プラズマとナノ界面の相互作用に関する学術基盤の創成 |
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| 研究課題/領域番号 |
21110008
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| 研究種目 |
新学術領域研究(研究領域提案型)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 審査区分 |
理工系
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| 研究機関 | 京都大学 |
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研究代表者 |
斧 高一 京都大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授 (30311731)
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| 研究分担者 |
江利口 浩二 京都大学, 工学研究科, 准教授 (70419448)
鷹尾 祥典 京都大学, 工学研究科, 助教 (80552661)
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| 研究期間 (年度) |
2009-07-23 – 2014-03-31
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| キーワード | プラズマ加工 / プラズマ化学 / 表面・界面物性 / 半導体超微細化 / 超微細加工技術 / 反応粒子輸送 / プラズマエッチング / プラズマ・表面過程揺動 |
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| 研究概要 |
プラズマエッチングにおいて基板表面に生じる微小なラフネスは，プラズマ・表面相互作用の時間・空間的不均一性 (揺らぎ) に起因すると考えられる．モンテカルロ法をベースとした独自の3次元原子スケールセルモデル (ASCeM-3D) に基づくエッチング表面形状進展シミュレーションを構築して，ナノスケールデバイス作製で問題となるパターンの上底面・側壁に生じるナノスケールの表面ラフネスとリップル構造 (イオン入射角度に依存) を再現した．さらに，プラズマ実験と古典的分子動力学シミュレーションをあわせて，これらの形成機構解明にせまるとともに，パルスバイアスエッチングによる表面ラフネス抑制を実験実証した．
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