| 研究課題/領域番号 |
01420030
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| 研究種目 |
一般研究(A)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 研究分野 |
電子機器工学
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| 研究機関 | 東北大学 |
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研究代表者 |
中村 慶久 東北大学, 電気通信研究所, 教授 (50006235)
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| 研究分担者 |
山本 節夫 東北大学, 電気通信研究所, 助手 (30182629)
大内 一弘 東北大学, 電気通信研究所, 教授 (10006249)
岩崎 俊一 東北工業大学, 学長 (80006212)
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| 研究期間 (年度) |
1989 – 1991
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| キーワード | 垂直磁気記録方式 / 高密度記録 / 垂直磁気ヘッド / 垂直磁気記録媒体 / 垂直磁気異方性 / スパッタリング / 接触記録 / 磁区 |
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| 研究概要 |
本研究は従来の磁気記録の概念にとらわれずに理想的なヘッド媒体系を実現して、垂直磁気記録方式による高密度記度の可能性を見極めようとするものである。3年間にわたる研究の結果、以下の成果を得た。
1.軟磁性薄膜の端部に切込みを入れて磁壁をピン止めすることによって磁区構造の制御が可能なことを見出し、この技術を応用してトラック幅2μmの垂直磁気ヘッドを実現し、400nV_<CーP>/[μm・turn・(m/s)]という極めて高い再生感度を達成した。これは高感度なリングヘッドを凌ぐ高い値であり、超狭トラック・高感度ヘッドが誘導形の垂直磁気ヘッドで実現できることを示したものである。
2.記録媒体の成膜時にプラズマを閉じ込め、低温・低ガス圧スパッタが可能な新スパッタ・タ-ゲットを開発し、高密度垂直磁気記録媒体の高速作製を可能にした。この新タ-ゲットを用いて垂直磁気記録テ-プ媒体を試作し、満足できる記録特性を得た。またCoーCrに第3元素としてTaを添加することによって媒体CoーCr層の結晶性・結晶配向性の改善を図り、高密度記録特性の向上させた。
3.従来常識であった浮上形ヘッド方式での浮上量による高密度記録特性の限界を打破できる画期的なヘッド支持方式として、垂直磁気ヘッドを表面平滑性に優れた垂直ハ-ドディスク媒体上に接触走行させる方式(スライディングコンタクト方式)を導入した。この新方式でヘッド・媒体間に安定した接触状態が実現でき、20000bits/mm以上の高密度領域でも良好なエンベロ-プの再生電圧が得られるようになり、パスウェア耐久性も大幅に向上できた。また、これまで最高の記録密度(D_<50>値)170kFRPIを達成し、4000bits/mm、10track/mmの高密度において10^<ー9>のエラ-レ-トを実現し、外部記録装置として垂直磁気記録方式が実用的に使用できるレベルにあることを確認した。
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