| 研究課題/領域番号 |
01470040
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| 研究機関 | 熊本大学 |
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研究代表者 |
出口 俊雄 熊本大学, 理学部, 教授 (00040113)
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| 研究分担者 |
吉田 昌文 熊本大学, 教養部, 助教授 (10040114)
田中 明 熊本大学, 理学部, 助手 (50163499)
実政 勲 熊本大学, 理学部, 教授 (60040119)
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| キーワード | オリゴ糖 / シクロデキストリン / 疎水性溶質 / 異種溶質間相互作用 / ホストーゲスト会合 / 疎水性相互作用 / Van der Waals力 / ポリテトラフルオロエチレン |
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| 研究概要 |
当初、水溶性高分子量物質としてポリNービニルピロリドンあるいはポリビニルアルコ-ルを用いる予定であったが、実際に研究に着手すると、分子量がこれより小さい、いわゆるオリゴマ-を先に研究対象にした方が、水溶液での異種溶質間相互作用を明らかにするうえで有益であることが判明した。シクロデキストリン(CyD)をホストとし、種々の疎水性溶質をゲストとしたホストーゲスト会合系を対象とし、会合定数を測定し、会合を支配する主要因子を明らかにした。ホストとして三種類のCyD(α、β、γ)、また、ゲスト分子として、ベンゼンおよび多環芳香族炭化水素、ハロベンゼン類(モノおよびpージ)、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタンなどを用いた。その結果、CyDと疎水性溶質との会合は、従来、疎水性相互作用によると説明されていたが、実際は、Van der Waals力によって支配されることが明らかになった。即ち、ホストであるCyD空洞内壁と接触するゲスト分子の表面積が会合を支配する主要因子である。
疎水性の高分子量物質であるポリテトラフルオロエチレン(テフロン)のフィルム表面に疎水性溶質を選択的に捕捉し濃縮する新しい方法を開発した。濃縮機構は、従来の溶媒抽出のそれと同じであると考えている。即ち、クロロホルム蒸気をテフロン材共存下で水溶液中に通気・循環すると、テフロン材の表面はクロロホルム層によって覆われ、水溶液中の疎水性溶質はテフロン材表面にクロロホルム層を介して抽出される。この手法をさらに発展させ、テフロン材ならびにCyD共存下で適用し、ユニ-クな分析方法(分離法および濃縮法)として育てたい。
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