シリコン結晶表面に形成される薄い自然酸化膜に関する研究

1990 年度 実績報告書

• 研究課題/領域番号: 01550252
• 研究機関: 法政大学
• 研究代表者: 原 徹 法政大学, 工学部, 教授 (00147886)
• キーワード: シリコン / ヒョウメン / ミゼンサンカマク / ヒョウメンブツリ / ハンドウタイプロセス

研究概要

失年度に本予算で購入した薄膜X線回析測定アタチメントを用い、シリコン表面に形成されるごく薄い自然酸化膜について評価を行った。またエリプリメ-タ、サ-マウエ-ブ法、RBS法による評価技術も確立した。
また自然酸化膜/シリコンの異面についてレ-ザビ-ム表面粗さ計、TEM(断面透過型電子顕微鏡)による評価を進めている。
またこの異面に対する異面装位のライフタイムを測定するため、表面再結合速度とバルクのライムタイムを分離する測定プログラムを完成、測定結果に対し、実際に分離した値を得た。
これらの結果をベ-スにし、一度清浄化したSi表面に再び形成される自然酸化膜の形成の詳細、メカニズム解明に関する実験を進行中である。まだ表面改質に関する研究も行っていて、形成される自然酸化膜の膜質、膜厚、異面制御を行う予定である。
上記の研究成果は下記の論文に一部発表済である。

研究成果

• [文献書誌] T.Hara and A.Suga: "Damage Formed by Electron Cyclotron Resonance Plasma Etching on a Gallium Arsenide Surface" J.Appl.Phys.67. 2836-2839 (1990)
• [文献書誌] T.Hara and M.Murota: "Interfacial Reaction of Ta and Si Rich Tantalum Silicides with Si Substrate" J.Appl.Phys.68. 183-188 (1990)
• [文献書誌] T.Hara,T.Miyamoto: "Composition of Tungsten Silicide Films Deposited by Dichlorosilane Reduction of Tungsten Hexafluoride" J.Electrochem.Soc.137. 2955-2959 (1990)
• [文献書誌] T.Hara,K.Tani,K.Inoue,: "Formation of Titanium Nitride Layers by the Nitridation of Titanium,in High Pressure Ammonium Ambient" Appl.Phys.Lett,. 57. 1660-1662 (1990)
• [文献書誌] T.Hara,H.Hagiwara,: "Monitoring of LowーDose Ion Implantation in Silicon" IEEE Electron Device Letts.11. 485-486 (1990)
• [文献書誌] H.Suzuki and T.Hara: "Plasma Damage Induced on Silicon Surface in a Barrel Asher" J.Electrochem.Soc.138. 542-544 (1991)
• [文献書誌] T.Hara,H.Hagiwara,Smith,C.Welles,: "Monitoring of Dose in Low Dose Ion Implantation" Nuclear Instruments and Methods in Physics Research,. B42. (1991)
• [文献書誌] T.Hara,T.Miyamoto: "In Situ Stress Measurement of Tungsten Silicide" Appl.Phys.Lett.58. (1991)
• [文献書誌] T.Hara,A.Yamanoue,: "Properties of Titanium Nitride Films for Barrier Metal in Aluminum Ohmic Contact Systems" Japan J.Appl.Phys.30. (1991)
• [文献書誌] T.Hara,and J.Hiyoshi: "Damage Formed by Electron Cyclotron Resonance Plasma Etching on Silicon Surface" Japan J.Appl.,Phys.30. (1991)
• [文献書誌] T.Hara,and R.Ichikawa: "Dose and Damage Measurements in Low Dose Ion Implantation in Silicon by PhotoーAcoustic Displacement and" Japan J.Appl.,Phys.30. (1991)
• [文献書誌] T.Hara,K.Inoue,: "Formation of Titanium Nitride/Titanium Silicide/Silicon by High Pressure Nitridation of Titanium/" J of Applied.Phys.69. (1991)