• 研究課題をさがす
  • 研究者をさがす
  • KAKENの使い方
  1. 課題ページに戻る

1991 年度 実績報告書

移動プラズマ形超高速スパッタ法を用いた高周波用超低損失アモルファス薄帯磁心の開発

研究課題

研究課題/領域番号 01850066
研究機関宮城工業高等専門学校

研究代表者

八木 正昭  宮城工業高等専門学校, 電気工学科, 教授 (80005371)

研究分担者 武下 拓夫  三菱マテリアル中央研究所, 室長
島田 寛  東北大学, 科学計測研究所, 教授 (00006157)
キーワードCo基アモルファススパッタ薄膜 / 薄帯磁心 / 超低損失 / 高透磁率
研究概要

本研究は,研究分担者・島田の考案によるU字形タ-ゲットをもつ移動プラズマ型スパッタ法を用いて,Co基アモルファス薄帯を長尺のフイルム基板上に成膜させ,超低損失の高周波用磁心材料を得ることを目的としている。
研究計画は3か年の予定で,初年度には,主として,スパッタリング装置本体および周辺機器の設計・製作を行い,2年度から薄膜の試作を進めてきた。しかし,この間,装置の製作や種々の手直しに予想以上の期間と労力を費やしたため,計画は当初見込みより大幅に遅れる結果となった。
本年度,ようやく成膜条件を制御して,優れた軟磁性をもつCo基のアモルファス薄膜が作製できる手掛かりが得られるようになった。しかし「研究経過報告書」にも記載したとおり,計画自体の遅れとアモルファス薄膜磁心を取り巻く研究開発状況の最近の大きな変化から,高周波用磁心材料としてのアモルファス薄膜は,さらに基礎的な検討が必要になったと考えられる。本研究計画は日程の上では一応終了するが,さらに1カ年程度,磁区観察による磁化機構など検討を詳しく行い,高周波用の超低損失アモルファス薄帯磁心についてとりまとめる予定で,現在,準備中ある。

  • 研究成果

    (1件)

すべて その他

すべて 文献書誌 (1件)

  • [文献書誌] 八木,島田: "スパッタ法を作製したアモルファス薄帯磁心の高周波磁気特性と磁区構造" 電気学会マグネティックス研究会. (1992)

URL: 

公開日: 1993-03-16   更新日: 2016-04-21  

サービス概要 検索マニュアル よくある質問 お知らせ 利用規程 科研費による研究の帰属

Powered by NII kakenhi