| 研究課題/領域番号 |
02403020
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| 研究機関 | 東京工業大学 |
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研究代表者 |
中井 武 東京工業大学, 工学部, 教授 (90016717)
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| 研究分担者 |
寺田 真浩 東京工業大学, 工学部, 助手 (50217428)
友岡 克彦 東京工業大学, 工学部, 助手 (70207629)
三上 幸一 東京工業大学, 工学部, 助教授 (10157448)
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| キーワード | 不斉合成 / 不斉触媒 / アルド-ル反応 / エン反応 / ランタノイド触媒 / チタン錯体 / 立体制御 / 分子認識 |
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| 研究概要 |
合成反応、とりわけ炭素ー炭素結合生成反応の不斉触媒化は今日の有機合成における最重要課題である。アルド-ル反応、カルボニルーエン反応などを不斉触媒化しようとする本年度の研究の成果は以下の通りである。
1.<アルド-ル反応の不斉触媒化>___ー.NMRシフト剤として広く用いられているユ-ロピラム錯体がアルデヒドとシリルケテンアセタ-ルとのアルド-ル反応の有効な触媒となることを見出した。また、このランタノイド触媒はキラルなαーアルコキシアルデヒド類の不斉アルド-ル反応およびキラルなβーヒドロキシ酪酸エステル由来のシリルケランアセタ-ルを用いる不斉アルド-ル反応において、特異な立体制御能と分子認識能を示すことを明らかにし、不斉アルド-ル反応の高ジアステレオ選択的不斉触媒化に初めて成功した。更に、このランタノイド触媒反応をポリオ-ル系の立体選択的合成やαーアミノアルデヒド類とのアルド-ル反応に展開した。
2.<カルボニルーエン反応の不斉触媒化>___ー.光学活性ビナフト-ルから誘導したキラルなチタン錯体が、グリオキシラ-トを親エン体とするグリオキシラ-トーエン反応の優れた不斉触媒となることを見出し、この不斉触媒的エン反応がαーヒドロキエステル類の高エンチオ選択的不斉合成法となることを見出した。また、この不斉触媒的エン反応では、生成物の光学純度が用いたビナフト-ルの光学純度をはるかに上まわるという“不斉増幅現象"が見られることを示し、この不斉触媒反応では、チタン錯体の二量体が“真の"不斉触媒となっていることを明らかにした。更に、このキラルなチタン触媒は、グリオキシラ-トを親ジエン体とするヘテローDielsーAlder反応やグリオキシラ-トへのアリルシランやアリルスズの付加反応の優れた不斉触媒ともなることを見出した。
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