| 研究課題/領域番号 |
02555060
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| 研究機関 | 九州工業大学 |
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研究代表者 |
大越 正敏 九州工業大学, 情報工学部, 助教授 (90112177)
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| 研究分担者 |
渡辺 直寛 九州工業大学, 情報工学部, 助手 (30230981)
槙 孝一郎 住友金属鉱山, 中央研究所, 主任研究員
対馬 國郎 九州工業大学, 情報工学部, 教授 (50217296)
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| キーワード | 光磁気メモリ / 磁性薄膜 / 永久磁石 / 高速度カメラ / 磁区構造 / 磁壁構造 / 保磁力 |
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| 研究概要 |
NdーFeーB薄膜の生成機構と動的な磁化反転過程を研究することにより,微細構造に依存する保磁力機構を明らかにし、光磁気ディスクの実用化とNdーFeーB磁石の高性能化とを同時に推進することを目的として、
1)高周波マグネトロンスパッタリング法によりFe薄膜を作成し、その初期生成過程を電気抵抗のその場測定により研究した。その結果、成長初期30Aまでは比抵抗が指数関数的に減少し、核の二次元成長が示唆された。その後100A位までは島状に発達してから連続膜に移行することが分かった。比抵抗のアルゴン圧力依存性を明かにし、結晶粒の成長機構に関して知見を得た。
2)NdーFeーBスパッタ膜の結晶粒径と配向性へのNdとB濃度依存性を研究し、磁気特性と磁気光学効果への寄与を明らかにした。微細組織、磁気異方性と保磁力が顕著に変化する組成領域を見いだした。
3)高分解能光学顕微鏡を用いてNdーFeーBスパッタ膜およびバルク磁石の磁区・磁壁の静的微細構造をカ-効果とビッタ-法を併用して観察し、保磁力の結晶粒径依存性、結晶粒間の磁気的相互作用を研究した。
4)磁区・磁壁の動的振舞いをフレ-ミングストリ-クカメラを用いて100nsecー1msecのシャッタ時間、300nー10μsecまでのレ-トで8画面を連続撮影し、結晶粒界と磁壁との相互作用、磁壁のピン止め機構と逆磁区の臨界安定寸法、逆磁区の発生・伝搬過程などの高速な磁壁移動現象を研究した。10nsecのパルス磁場によりストライプ磁区をチョッピングするとバブル径の異なる三つの安定状態が存在することを見いだした。光書き込み・消去過程における動的な磁化反転の様子を明かに出来る見通しを得た。
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