| 研究概要 |
1.オクタメチルトリシラン、ヘキサメチルジシラン、およびテトラブチルシランの真空紫外光による光分解
オリゴポリシランの光反応様式が、上記の最も基本的な化合物で確認された。ここではケイ素ーケイ素結合関与のシリレン脱離が最も容易で、ついでケイ素ーケイ素結合開裂によるシリルラジカル生成反応である。ケイ素ー炭素結合開裂によるラジカル種の生成、またケイ素ーケイ素結合:ケイ素ー炭素結合関与さらに2個のケイ素ー炭素結合関与のみによるシリレン脱離も観測された。
2.ヘキサメチルジゲルメンの真空紫外光による光分解
ホキサメチルジシランの光分解と形式的に同じであって、主生成物はゲルマニウムーゲルマニウム結合開裂に基づくゲルミルラジカルの発生である。また、ゲルミンレン生成が存在する。ケイ素類緑体に比べてこの過程の重要性は増大している。
3.アリ-ル置換14族カテナ-ト、PhMe_2EーE'Me_3(E,E'=Si,Ge)の光分解
PhMe_2SiーGeMe_3,PhMe_2GeーSiMe_3,およびPhMe_2GeーGeMe_3の光分解を種々の条件で検討した。反応はまず金属ー金属結合切断により対応するラジカル対が生成するとして合理的に理解される。
4.光誘起電子移動反応と質量スペクトルの類似
ポリシラアルカノ-ルの光誘起電子移動反応経由のケイ素ーケイ素結合切断とこれらアルカノ-ルの質量スペクトルに類似が認められた。
5.(トリフルオロメチル)ベンゼン類とヘキサメチルジシランおよびオクタメチルトリシランとの光誘起電子移動反応
(トリフルオロメチル)ベンゼン類でベンジル位のシリル化および芳香環のシリル化が観測された。励起錯体経由で進行すると考えられる。
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