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本研究はキラルなスルフィニル基によって作られる特異な反応場を明らかにし、この特徴的な官能基による不斉反応の幅広い活用に向けての基礎的なデ-タを収集することを主たる目的として行った。スルフィニルの特徴を明かにする手段として、ビニルスルホキシドに対するエステルエノレ-トの求核付加反応を取り上げ種々検討した。その結果、ビニルスルホキシドのβ位の置換基にかかわらずスルフィニル基のβ位のジアステレオ反応場はスルフィニル基によって完全に規制されβに不斉炭素が構築される事が明らかになった。この性質を活用することによって高純度4級不斉炭素が収率良く構築できることが明らかになった。スルフィニルのα炭素はアニオン調製した後、あるいはカルボニル基に変換した後、炭素延長可能でありββージ置換ビニルスルホキシドへの求核付加生成物は4級不斉炭素を有する合成ブロックとして活用できる。これらの一連の研究によって、β位の置換基にかかわらずβ位に不斉誘導されること、E体ビニルスルホキシドではγδ位にも不斉誘導されること、コハク酸エステルのエノレ-ト反応では、光学活性シクロペンテノリ誘導体が収率良く合成出来ることなど数多くの事実を明らかに出来た。しかし、これらの特異性を明確に理由付けするには至っていない。これらの成果を基に、今後さらに多くの研究を継続し、スルフィニル基によって作られる反応場の統一的な考え方を示したい。
また、本年度研究実施計画の1部であった分子内求核付加反応によるシクロアルカノンの合成は収率が悪いことが分かった。この理由は現在のところ明らかに出来ていない。
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