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1.SV40のin vitroDNA合成系を用いて、紫外線照射のDNA複製反応に及ぼす影響について解析した。鋳型DNAにあらかじめ紫外線を照射した後in vitroのDNA合成反応を行なった。複製反応は紫外線照射量の増加にともなって抑制されたが、完全には阻害されなかった。またその阻害の程度は、細胞に照射した場合と比べると、同等の阻害効果を得るためには、10倍程度の照射量が必要であった。複製反応のどの素過程が阻害されているかを調べるために、DNA合成反応を ^<32>Pで標識された基質を用いて行ないその合成産物についての解析を行なった。DNA合成反応後、合成産物を精製し一制限酵素により消化した後、ガロ-スゲル電気泳動で解析した。その結果、DNA複製の伸長反応が主として阻害されていることが示唆された。
2.SV40DNAのin vitro複製反応系はでみられた伸長反応の阻害がin vivoでも同様に見られるか、HeLa細胞と、紫外線によるDNA傷害の修復機構に欠陥を有する色素性乾皮症細胞を用いてアルカリアガロ-スゲルを用いて解析をした。その結果、どちらの細胞でもin vitroでの実験と同様に伸長反応の阻害が観察された。
3.SV40DNAのin vitro複製反応系をもとにして、効率の良い修復合成反応がみられるin vitroのDNA合成系を確立し、その至適条件を決定した。また、ピリミヂン二量体の簡便な測定法を開発し、in vitroの修復合成系でその除去が効率良く行われていることを示した。
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