| 研究課題/領域番号 |
03302025
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| 研究機関 | 京都大学 |
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研究代表者 |
板谷 良平 京都大学, 工学部, 教授 (90025833)
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| 研究分担者 |
堀池 靖浩 広島大学, 工学部, 教授 (20209274)
後藤 俊夫 名古屋大学, 工学部, 教授 (50023255)
籏野 嘉彦 東京工業大学, 工学部, 教授 (90016121)
佐藤 徳芳 東北大学, 工学部, 教授 (40005252)
田頭 博昭 北海道大学, 工学部, 教授 (10001174)
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| キーワード | 反応性プラズマ / シース / プラズマ・固体相互作用 / プラズマ・表面相互作用 |
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| 研究概要 |
本研究課題は半導体プロセスに不可欠の技術であるプラズマプロセシングに関して最も重要な働きをしているが、これまで真剣に研究されることが少なかったプラズマのシース、すなわち、プラズマと個体表面との間に存在するインターフェースについて、組織的な研究を開始するにあたり、プラズマ、半導体、表面化学ならびに物理化学の各分野の専門家が協力して研究の方向を見出そうとするものである。
本年度は3か年計画の第2年度に当たるので、昨年度に行った問題点の洗い出しと各自の研究分担課題の確認に従って研究を進め、2月上旬に研究会を開き今年度の研究成果を報告し、次年度の研究の進め方を討議した。
本年度に得られた主な成果は
1.非発光ラジカルとくにCFn系の電極間の密度分布の測定が進み、シースを横切るラジカルの流束が定量的に把握できた。
2.基盤近傍におけるラジカル発生について定量的計測が進んだ。
3.微粒子の発生の時間分解2次元観測が行われた。
4.偏光赤外線反射法による膜堆積のその場観察が進み、膜生成とプラズマ条件との関係が判り始めた。
5.2次元粒子モデルによるシースのシミュレーションについて、モデルの改良が行われた。
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