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1992 年度 研究成果報告書概要

真空紫外光による表面光化学反応の動的研究

研究課題

研究課題/領域番号 03453024
研究種目

一般研究(B)

配分区分補助金
研究分野 構造化学
研究機関高エネルギー物理学研究所

研究代表者

田中 健一郎  高エネルギー物理学研究所, 放射光実験施設, 助教授 (90106162)

研究分担者 上野 信雄  千葉大学, 工学部, 助教授 (40111413)
北島 義典  高エネルギー物理学研究所, 放射光実験施設, 助手 (00204892)
研究期間 (年度) 1991 – 1992
キーワード放射光 / 表面光化学 / 内殻励起 / イオン脱離 / 分子内サイト選択反応
研究概要

本研究は、固体表面に吸着した分子の反応が、気相と凝縮相の性格を合わせもっている点に着目したもので、放射光を光源とし、超高真空下で固体表面に吸着した分子の光化学反応を、光電子分光法、イオン分光法、発光分光法等を駆使して調べることにより、反応過程の解明を目的とするものである。研究は、実験装置の設計・製作に始まり、その性能評価を経て、予定通り、次の2つの研究課題を中心に、真空紫外光による表面光化学反応の動的研究を行った。
1.シリコン単結晶表面に単分子層吸着した水分子の光刺激イオン脱離反応では、水分子の酸素K殻電子励起では、主に水素原子イオンと酸素原子イオンが観測され、その収量スペクトルの形はそれぞれ異なっており、励起エネルギーに強く依存することが調べられた。同時に測定したオージェ電子収量スペクトルおよび表面の研究に初めて適用されたイオンーイオン・コインシデンス測定の結果との比較から、この系でのイオン脱離過程には、種々の電子励起過程が関与し、その結果生じる多価イオンと脱離過程中に基板からの電荷移動による中性化反応が重要な役割をしていることが明らかになった。
2.PMMA薄膜(100A厚)の軟X線領域の放射光励起光分解反応では、Au蒸着Si(100)基板上にスピンコートしたPMMA薄膜を試料とした。主な生成イオンとして、H^+、CH^+_X(X=1,2,3)HCO^+、COOCH^+_3が観測され、その収量スペクトルは、炭素および酸素原子のK-吸収端近傍でそれぞれ特徴的な振る舞いを示した。すなわち、CH^+とCH^+_2では、炭素原子のK-吸収端近傍で他のイオンには見られない鋭いピーク構造が観測された。また、側鎖の分解によるHCO^+では酸素原子のK-吸収端近傍で増加がみられるが、COOCH^+_3では見られないことなど分子内位置選択励起分解反応と関連する大変興和深い結果が得られた。

  • 研究成果

    (13件)

すべて その他

すべて 文献書誌 (13件)

  • [文献書誌] N.Ueno: "Valence bands of PMMA and photo ion emission in VUV region." J.Appl.Phys.72. 5423-5428 (1992)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [文献書誌] T.Goto: "An area selective and anisotropic etching of Si by synchrotrn radiatin exaitation:Effects of introducing O_2 molecules." Jpn.J.Appl.Phys.31. 4449-4453 (1992)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [文献書誌] K.Kameta: "Photoabsorptior,photoinization,and neutral dissociation cross sections of dimethyl ether and ethyl methyl ether in the extreme-ultraviolot range." J.Chem.Phys.96. 4911-4917 (1992)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [文献書誌] 田中 健一郎: "内殻電子励起による光刺激イオン脱離過程" 表面科学. 14. 153-158 (1993)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [文献書誌] N.Ueno: "Site specific photochemical reaction of PMMA by core electron excitation." Jpn,J.Appl.Phys.(Suppl). 32-2. 229-231 (1993)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [文献書誌] H.Ikeura: "The mechanism of Ion desorption from H_2O/Si(100) by O Is electiron excitation." Jpn.J.Appl.Phys.(Suppl.). 32-2. 246-248 (1993)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [文献書誌] K.Tanaka: "AIP Conference Proceedings No.258 Synchrotron Radiation and Dynamic Phenomena" Amer.Inst.Phys., 691 (1992)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [文献書誌] N. Ueno, Y. Kobayashi, T. Sekiguchi, H. Ikeura, K. Sugita, K. Honma, K. Tanaka, E. Orti and R. Viruela: "Valence bands of PMMA and photoion emission in VUV region." J. Appl. Phys.72-11. 5423-5428 (1992)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [文献書誌] T. Goto, O. Kitamura, S. Terakado, S. Suzuki and K. Tanaka: "An area selective and anisotropic etching of Si by synchrotron radiationexcitation: Effects of introducing O_2 molecules." Jpn. J. Appl.Phys.31-12B. 4449-4453 (1992)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [文献書誌] K. Tanaka, H. Ikeura, N. Ueno, Y. Kobayashi, K. Obi, T. Sekiguchi, and K. Honma: "Ion desorption from Si(100)-H_2O/D_2O by core-electron excitation." AIP Conf. Proceed. (Amer. Inst. Phys.). No.258. 332-340 (1992)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [文献書誌] N. Ueno, M. Komada, Y. Morimoto, M. C. K. Tinone, M. Kushida, K. Sugita,K. Honma and K. Tanaka: "Site specific photochemical reaction of PMMA by core electron excitation." Jpn. J. Appl. Phys. (Suppl.). 32-2. 229-231 (1993)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [文献書誌] H. Ikeura, T. Sekiguchi, K. Tanaka, K. Obi, N. Ueno and K. Honma: "The mechanism of ion desorption from H_2O/Si(100) by O 1s electron excitation." Jpn. J. Appl. Phys. (Suppl.). 32-2. 246-248 (1993)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [文献書誌] K. Tanaka: "Photon stimulated ion desorption by core electron excitation. (in Japanese)" Hoymen Kagaku. 14-3. 153-158 (1993)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より

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公開日: 1994-03-24  

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