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本研究では、高効率ラジカルの生成方式として、マイクロ波十エジェクターを用いて、ラジカル生成のための減圧場と反応のための常圧場を同時に実現する試みを行っている。
昨年までの実験で、エジェクター方式のラジカル生成装置を設計・製作し、致達減圧レベルおよび、プラズマ発生条件を調べた。その結果、致達最高減圧レべルは、160torr、プラズマ発生圧力は、200torrであることが分かった。
次に、ラジカル生成の具体例として、N_2→N十Nを取りあげた。Nラジカルの生成効率に影響するNラジカルの壁での失活特性および、失活機構を調べた。その結果、Nラジカルの壁での失活速度は、温度が上昇し圧力が高くなるほど増大する。
壁の材料に関しては、テフロンー石英ーセラミックスー金属(金)の順で、失活速度が上昇することがわかった。
また、失活の機構に関しては、Langmier-Rideal機構で進むことがわかった。
また、反応器内の滞留時間を変えることで、壁でのNラジカルの失活の反応速度定数を算出することができた。
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