| 研究概要 |
1.高精度球研磨盤の試作
球研究磨に採用されている各種研磨法を比較検討し,従来法の欠点を解消し,高速かつ高精度球研磨が可能な高精度球研磨盤を設計試作した.この装置を用い,各種ラップを用いた試験研磨を行った.ラッピング条件は上ラップ回転数は480rpm,下ラップ回転数は320rpmである.これは一般に行われる加圧ラップ停止の方法に換算すると,ラップ回転数800rpmに相当する.ラッピング荷重は1球あたり5Nまでとした.
2.試験研磨の結果
(1)鋳鉄ラップを用いた場合
鋳鉄ラップは,V溝付きラップと平板ラップの組み合わせとした.ラップ剤は水溶性ダイヤモンドスラリを用いた.中仕上げには2-4μm,仕上げには0-2μmの粒度のものを用いた.研磨球は直径12mmのジルコニア球である.70時間の研磨により達成した真球度は0.23μm,表面粗さは0.06μmRaであった.
(2)PTFEラップを用いた場合
研磨剤として水溶性ダイヤモンドスラリ,軽油に懸濁したダイヤモンド砥粒,水に懸濁した酸化クロムを使用した。いずれの場合においても,良好な表面粗さを得ることはできなかった.
(3)酸化クロムラップ
メカノケミカル反応により,極めて平滑な仕上げ面と高加工能率が期待されるこのラップを用いた試験研磨では,加工能率極めて低いこと,砥粒加工と異なり,スクラッチの少ない加工面が得られることが明らかになった.
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