| 研究概要 |
本研究は,基礎的なアプロ-チとしての化学気相成長(CVD)法の反応成長機構について速度論的に追究し,それに基づき運転条件の最適化を含めた薄膜製造の高効率化を図ることを目的とするものである.本年度は,当初の計画に沿って行われ以下の成果を得た.
(1)化学気相成長法による製造法についての現状,および工業材としての応用ついて,物理的方法を含めて調査され,デ-タが収集された.
(2)それに基づき,加熱材料を内蔵した試験容器ーガスコントロ-ル系ー排気処理系ー測定部からなる実験装置が設計製作された.
(3)基礎実験を行い,操作パラメ-タの影響を含めた気相中での粒子生成についての基礎資料を得た.
さらに,
(4)対流場での粒子の生成とその動的挙動を速度論的に解析し,基礎実験結果との比較検討により,気流中での粒子生成ー輸送機構が粒子生成条件を含めて明らかにされた.
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