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本研究は.京都工芸繊維大学のRFP装置であるSTE-2において高エネルギー電子よおよびイオンの測定を行い.それらの生成機構を明らかにすることを目的とした。初年度は金属ターゲットと半導体検出器を組み合わせたX線プローブを検計.製作した。また.STE-2RFPの放電特性を改善するため.境界条件がプラズマの振舞いに及ぼす効果を詳しく調べた。次年度はSTE-2近接シェル放電において高エネルギー電子の測定を行った。その結果.以下のことが明らかになった。(i)STE-2RFPプラズマの周辺領域(r/a>0.7)に.400-600evの平均エネルギーをもつ電子が存在する.(ii)この高エネルギー電子は磁力線に沿ってほぼ一方向(中心部の電場で加速されて磁力線に沿って周辺部に漏れ出る方向)に流れる。(iii)高エネルギー電子密度は充填ガスの圧力とともに減少する。(i).(ii)は従来のRFPの結果と同じであるが.(iii)のてい圧力依存性(多分プラズマ密度依在性)はSTE-2で初めて観測された実験事実であり.高エネルギー電子の生成機構のモデルとともに詳しく検討する必要がある。また.これらの実験と並行して.方向性プローブを組み合わせたEMFプローブについて検討を行い.ある条件の下では.<V^^〜XB^^〜>起電力を評価できることがわかった。また.イオンの測定のためにマルチグリッド静電エネルギー分析器を製作した。主に時間的制約のためにこれらの静電的測定には至らなかったが.本研究を通してSTE-2RFPにおける高エネルギー電子について.その生成機構に関する重要な知見が得られ.当初の目的は達成されたと考える。
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