本研究はナノメータースケールでの遺伝子解析を達成するための新しいDNA伸張固定化技術の開発である。 本年度はDNAが有する特異的性質・分子構造を十分把握し、DNA伸張固定に対し適切な相互作用が働く基板表面の検討を行った。基板表面とDNAとの相互作用を分子レベルで理解するとともに、高分解能観察に適した基板表面設計をナノメーターレベルで行った。またDNAとタンパク質(ヌクレオソーム)の複合体を基板表面に伸張整列固定する事が可能となり、それら複合体のAFMによる高分解能観察が出来た。さらにDNAと機能性ポリマーの複合体を調製し、DNA/ポリマー複合化ナノワイヤのアレイ化が可能となった。このナノワイヤに適当な酸化還元剤と作用させることで、その物性を絶縁体から半導体そして金属へ変化させることができた。またメタルマスクを用い、マスクの開口部分にのみ伸張DNAを整列画定化でき、前年度開発した転写印刷法の技術を使用し、このDNAパターンを他基板表面に写し取ることが出来た。
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