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1993 年度 実績報告書

レーザー分光法と表面分析分光法による表面光化学反応の素過程

研究課題

研究課題/領域番号 04045011
研究機関北海道大学

研究代表者

川崎 昌博  北海道大学, 電子科学研究所, 教授 (70110723)

研究分担者 SPRINGSTEEN ラリー  コーネル大学, 化学科, 助手
HO Wilson  コーネル大学, 物理学科, 助教授
HOUSTON Paul  コーネル大学, 化学科, 教授
皆川 秀紀  北海道大学, 触媒化学研究センター, 助手 (70202348)
早川 和延  北海道大学, 触媒化学研究センター, 教授 (80218552)
松見 豊  北海道大学, 電子科学研究所, 助教授 (30209605)
キーワード表面光分解 / 表面配向 / トリメチルインジウム / 一酸化窒素 / 半導体 / トリメチルガリウム / ダイナミックス / ジメチルアルミニウムハイドライド
研究概要

次に述べる実験を北海道大学・コ-ネル大学で行ない、それぞれ論文にするとともに、来日、訪米による成果の一つとして、北大、コ-ネル大の共同論文を出した。
・トリメチルインジウムのSi(111)半導体表面光分解(北大)
・鉄アルカンチオールの表面配向(北大)
・ジメチルアルミニウムハイドライドのSi(100)半導体表面上の紫外光分解(北大)
・トリメチルインジウムとトリメチルガリウムのGaAs半導体上の光分解(北大)
・N_2O分子の光解離で生成するO(^1D)原子の生成ダイナミックス(北大・コ-ネル大)
・Ni(111)表面上からのCO脱離(コ-ネル大)
・Pt(111)表面上のO_2+CO反応(コ-ネル大)
研究分担者の訪米、来日による北海道大学・コ-ネル大学共同研究及び討論の結果、a)レーザー分光法の利用としてはCO分子、b)表面分析法であるESCA分光の利用としてはSiCl_x,GaCl_x分子が本国際共同研究に向いているとの知見が得られた。
さらに、これまでの研究成果を国際会議等で発表し、この研究分野における情報収集を行なった。

  • 研究成果

    (6件)

すべて その他

すべて 文献書誌 (6件)

  • [文献書誌] L.L.Springsteen: "Anisotropy and energy disposal in the 193-nm N_2O photodissociation measured by VUV laser-induced fluorescence of O(^1D)." J.Phys.Chem.97. 7239-7241 (1993)

  • [文献書誌] S.Shogen: "Photodissociation of trimethylindium and trimethylgallium on GaAs at 193 nm studied by angle-resolved photoelectron spectroscopy." Jpn.J.Appl.Phys.32. 3099-3105 (1993)

  • [文献書誌] K.Tonokura: "Photodissociation of ICl at 235-248 nm." J.Chem.Phys.99. 3461-3467 (1993)

  • [文献書誌] Y.Matsumi: "Dynamics of the reactions of O(^1D) with HCl,DCl,and Cl_2." J.Chem.Phys.98. 8330-8336 (1993)

  • [文献書誌] H.Jiang: "Gas desorption analysis on the surface of ZnO(0001) after hydrogen ion irradiation." Jpn.J.Appl.Phys.32. L806-L808 (1993)

  • [文献書誌] N.Nagashima: "Si K X-ray-absorption spectra of single-crystal Si and amorphous SiO_2." Phys.Rev.B48. 18257-18260 (1993)

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公開日: 1995-02-08   更新日: 2016-04-21  

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