新しいオプトメカトロニクスに関する研究

1992 年度 実績報告書

• 研究課題/領域番号: 04045022
• 研究機関: 東京農工大学
• 研究代表者: 難波 義捷 東京農工大学, 工学部, 教授 (60015013)
• 研究分担者: 賀 莉清 上海機械学院, 学科主任 ; 陳 林 上海機械学院, 副院長 ; 凌 世徳 上海機械学院, 学科主任 ; 戴 興慶 上海機械学院, 研究所長 ; 陳 離 上海機械学院, 副院長 ; 周 鵬飛 上海機械学院, 副院長 ; 佐藤 勝昭 東京農工大学, 工学部, 教授 (50170733) ; 小林 駿介 東京農工大学, 工学部, 教授 (90015123) ; 梅田 倫弘 東京農工大学, 工学部, 助教授 (60111803) ; 吉沢 徹 東京農工大学, 工学部, 教授 (80020387) ; 齊藤 忠 東京農工大学, 工学部, 教授 (30215545)
• キーワード: ダイヤモンド薄膜 / 精密機器への応用 / 画像処理技術 / 構造シミュレーション / 薄膜の合成と構造 / 偏光解析 / オプトメカトロニクス

研究概要

ダイヤモンドに代表される超硬質膜の合成を行うために、薄膜合成装置を開発製作し、実際にダイヤモンド薄膜を合成した。また、合成機構を解明する目的から合成面に関する各種測定を試み、薄膜の構造解析を実施した。上海機械学院で、以上の研究成果に関する情報交換、講演ならびに討論を行った。
高機能オプトエレクトロニクス分野では、新薄膜素材の偏光解析による構造解析などを行った。そのための高機能化理論の確立と計算機による素子特性および素子構造のシミュレーションを行った。上記と同じく、上海機械学院で研究成果に関する講演ならびに討論を行った。
ダイヤモンドなどの超硬質膜および光学薄膜の合成装置の改良を行い、合成薄膜の構造観察および電子物性や機械的特性を測定した。さらに、薄膜の偏光特性に注意し、光学的な見地から機能や性能に関する評価検討を加えて精密機器への実用的応用を検討した。東京農工大学において、以上の研究成果に関する打ち合わせ、講演ならびに討論を行った。
画像処理技術を取り入れた手法により薄膜用材料などの物性的な特性に関し基礎データを取得するとともに、材料物性について機能や安定性なども含めた総合的立場からの評価を加え、オプトメカトロニクスシステムとしての実施面からの検討を行った。東京農工大学において、以上の研究成果に関する打ち合わせを行った。

研究成果

• [文献書誌] E.Heidarpour,T.MORI and T.NAMBA: "Hardness and Structural Studies of Diamond Thin Films Prepared by Ionized Deposition" Journal of The Surface Science Sociey of Japan(表面科学). 12. 115-118 (1991)
• [文献書誌] E.Heidarpour,and Y.NAMBA: "Raman observation of diamond phase carbon films prepared by ionized deposition" Surface and Coating Technologies. 49. 394-398 (1991)
• [文献書誌] Y.NAMBA,E.Heidarpour and M.NAKAYAMA: "Size effects appearing in the Raman spectra of polycrystalline diamonds" Journal of Applied Physics. 72. 1748-1751 (1992)
• [文献書誌] M.NAKAYAMA,M.SHIBAHARA and Y.NAMBA: "Study of the abrasion properties of diamondlike films synthesized on iron" Journal of Vacuum Science & Technology A. 10. 2122-2125 (1992)
• [文献書誌] Y.NAMBA: "Attempt to grow diamond phase carbon films from an organic solution" Journal of Vacuum Science & Technology A. 10. 3368-3370 (1992)
• [文献書誌] T.SAITOH,N.HORI,K.SUZUKI and S.IIDA: "Optical Properties of Very Thin Hydrogenated Amorphous Silicon Films using Spectroscopic Ellipsometry" Japanese Journal of Applied Physics. 30. 1914-1916 (1991)