1992 年度実績報告書

シリコン表面の水素終端化とシリサイド形成過程の研究

研究課題

研究課題/領域番号	04452093
研究機関	大阪大学
研究代表者	上田一之大阪大学, 工学部, 助教授 (60029212)
研究分担者	高井義造大阪大学, 工学部, 助教授 (30236179)
キーワード	シリコン / 水素終端化 / シリサイド / 水素吸着 / エピタキシー / 水素検知 / 電子励起脱離 / TOF-ESD
研究概要	超LSIプロセスの中でシリコンと金属界面のシリサイド化の問題は微細加工処理にともなって重要な問題となっている。最近、ヘテロエピタキシーの分野でシリコン表面を水素終端化してスムーズな金属膜の成長が期待され研究が行われている。ところが試料の処理温度によっては水素の脱離のために急激にシリサイド化する可能性もある。本研究では水素終端化シリコン上のシリサイド形成のメカニズムを研究することを主たる目的とした。本年度は本研究室で開発された電子励起イオン脱離(TOF-ESD)装置を用いて、 (1)基板として用いるシリコンへの水素吸着過程を詳細に研究し、(2)その結果をふまえて、先ずシリサイド形成をしないアルミニウムのヘテロエピタキシーを水素の吸着のある無しで比較し興味ある結果を得ている。(3)またシリコン上での金薄膜の成長過程をオージェ電子分光と電子回折で調べシリサイド化の様子を研究した。今後は水素吸着表面との比較を行う。(4)さらに、原子レベルの研究を推進するために低温領域で動作する走査トンネル顕微鏡と従来の表面研究装置、特に水素がその場観察可能な電子励起イオン脱離(TOF-ESD)装置との組み合わせを可能にした新しい分析装置の設計組立を行った。

研究成果
(12件)

すべてその他

すべて文献書誌 (12件)

[文献書誌] K.Ueda,S.Kodama and A.Takano: "Studies of Hydrogen Adsorption on Silicon (100) Surfaces by Means of Time-of-Flight Type Electron-Stimulated-Desorption" Vacuum,. 43. 795-798. (1992)
[文献書誌] K.Ueda,S.Kodama and A.Takano: "A Study of Hydrogen Adsorption on Silicon Surfaces by Means of Time-of-Flight Type Electron-Stimulated Desorption." Appl.Surface.Sci.;. 60/61. 178-182. (1992)
[文献書誌] A.Takano and K.Ueda.: "On Kinetic Energy Distribution of Oxygen Ion Desorbed from a CO-Adsorbed Ni(110) by Time-of-Flight Type Electron-Stimulated-Desorption." Appl. Surface.Sci.60/61. 693-697. (1992)
[文献書誌] K.Ueda,S.Kodama and A.Takano: "Desorption Study of Proton from H/Si(100) by Electron Stimulated Desorption Spectroscopy." Surface Sci.
[文献書誌] K.Ueda,: "A study of dynamic process of hydrogen adsorptions on silicon surfaces." 11th Record of Allooy Semicon.and Elect. Sympo.,(Kyoto,July,1992)(Invited paper).141-146. (1992)
[文献書誌] K.Ueda,: "Defect observation in silicon surface layers by surface wave resonance in RHEED." Material Sci.Forum.117/118. 273-278. (1993)
[文献書誌] K.Ueda and A.Takano,: "Hydrogen termination study of silicon dang-ling bonds by electron stimulated desorption spectroscopy (TOF-ESD)" Surface Sci.
[文献書誌] A.Takano and K.Ueda,: "Electron Stimulated Desorption of O^+ from CO Adsorbed Ni(110) Surface." Surface Sci.
[文献書誌] A.Takano and K.Ueda,: "Energy distributions of oxygen ions desorbed from CO- and NO-covered nickel (110) surfaces." Surface Sci.
[文献書誌] A.Takano and K.Ueda,: "Detection of hydrogen on nickel(110) surface by electron stimulated desorption." Jpn.J.Appl.Phys.
[文献書誌] 上田一之、児玉真二、高野暁巳: "電子励起脱離法による固体表面上の水素の高感度検知." 表面科学. 13. 339-343, (1992)
[文献書誌] 上田一之: "電子励起脱離法による固体表面の動的観察." 表面技術. 44-2,. (1993)

1992 年度 実績報告書

シリコン表面の水素終端化とシリサイド形成過程の研究

研究代表者

上田 一之 大阪大学, 工学部, 助教授 (60029212)

研究成果

[文献書誌] K.Ueda,S.Kodama and A.Takano: "Studies of Hydrogen Adsorption on Silicon (100) Surfaces by Means of Time-of-Flight Type Electron-Stimulated-Desorption" Vacuum,. 43. 795-798. (1992)

[文献書誌] K.Ueda,S.Kodama and A.Takano: "A Study of Hydrogen Adsorption on Silicon Surfaces by Means of Time-of-Flight Type Electron-Stimulated Desorption." Appl.Surface.Sci.;. 60/61. 178-182. (1992)

[文献書誌] A.Takano and K.Ueda.: "On Kinetic Energy Distribution of Oxygen Ion Desorbed from a CO-Adsorbed Ni(110) by Time-of-Flight Type Electron-Stimulated-Desorption." Appl. Surface.Sci.60/61. 693-697. (1992)

[文献書誌] K.Ueda,S.Kodama and A.Takano: "Desorption Study of Proton from H/Si(100) by Electron Stimulated Desorption Spectroscopy." Surface Sci.

[文献書誌] K.Ueda,: "A study of dynamic process of hydrogen adsorptions on silicon surfaces." 11th Record of Allooy Semicon.and Elect. Sympo.,(Kyoto,July,1992)(Invited paper).141-146. (1992)

[文献書誌] K.Ueda,: "Defect observation in silicon surface layers by surface wave resonance in RHEED." Material Sci.Forum.117/118. 273-278. (1993)

[文献書誌] K.Ueda and A.Takano,: "Hydrogen termination study of silicon dang-ling bonds by electron stimulated desorption spectroscopy (TOF-ESD)" Surface Sci.

[文献書誌] A.Takano and K.Ueda,: "Electron Stimulated Desorption of O^+ from CO Adsorbed Ni(110) Surface." Surface Sci.

[文献書誌] A.Takano and K.Ueda,: "Energy distributions of oxygen ions desorbed from CO- and NO-covered nickel (110) surfaces." Surface Sci.

[文献書誌] A.Takano and K.Ueda,: "Detection of hydrogen on nickel(110) surface by electron stimulated desorption." Jpn.J.Appl.Phys.

[文献書誌] 上田 一之、児玉 真二、高野 暁巳: "電子励起脱離法による固体表面上の水素の高感度検知." 表面科学. 13. 339-343, (1992)

[文献書誌] 上田 一之: "電子励起脱離法による固体表面の動的観察." 表面技術. 44-2,. (1993)

1992 年度実績報告書

上田一之大阪大学, 工学部, 助教授 (60029212)

[文献書誌] 上田一之、児玉真二、高野暁巳: "電子励起脱離法による固体表面上の水素の高感度検知." 表面科学. 13. 339-343, (1992)

[文献書誌] 上田一之: "電子励起脱離法による固体表面の動的観察." 表面技術. 44-2,. (1993)