| 研究課題/領域番号 |
04555012
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| 研究機関 | 東京大学 |
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研究代表者 |
伊藤 良一 東京大学, 工学部, 教授 (40133102)
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| 研究分担者 |
近藤 高志 東京大学, 工学部, 助手 (60205557)
深津 晋 東京大学, 先端科学技術研究センター, 助手 (60199164)
尾鍋 研太郎 東京大学, 工学部, 助教授 (50204227)
白木 靖寛 東京大学, 先端科学技術研究センター, 教授 (00206286)
工藤 徹一 東京大学, 生産技術研究所, 教授 (90205097)
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| キーワード | 非線形光学 / 光第2高調波発生 / 波長変換 / 有機結晶 / 光導波路素子 / 微細加工 / 水溶性無機レジスト / リソグラフィ- |
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| 研究概要 |
平成4年度は、主に有機非線形光学結晶の微細加工工程の各技術を確立することを目指した。加工対象としてはMBANPとDANを選んだ。
1.水溶性無機レジストHPAの特性とリソグラフィ-
露光に用いるdeep UV 光源に改良を加えるとともに、溶液濃度・塗布条件、露光条件や露光後の保存条件や現像条件などの最適化をおこなった。その結果、有機結晶状に再現性良くレジスト膜を塗布しパタ-ニングをおこなうことが可能となった。また、レジスト膜厚を0.1μm程度にすることによってイオン照射時の損傷が避けられることも示した。さらに、HPAの複素屈折率スペクトルの測定をおこない、その経年変化や露光・イオン照射による変化などを初めて明らかにした。これはHPAの重合の度合いを知るために簡便なプロ-ブとなるだけでなく、HPAを保護膜として素子に残す場合に重要なパラメ-タとなる基礎デ-タである。
2.O_2-RIBEによる有機結晶のエッチング
ECRイオンシャワ-装置を用いて酸素プラズマ反応性イオンビ-ムエッチングによる有機結晶の微細加工を試みた。イオンの加速電圧と酸素ガス圧とを最適化することによって良好な結果が得られるようになった。従来のウェットエッチングや反応性イオンエッチングで問題となっていた結晶の剥離や残さなどの問題が解決され、厚さ3μm程度まで非常に異方性の良いエッチングが可能となった。
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