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パラジウム錯体触媒による炭酸ガス固定化を目的として、パラジウム-二酸化炭素錯体の合成し、その構造と反応性を明らかにし、続いて、配位二酸化炭素の還元、炭酸ガスの触媒的還元反応を検討し、これまでに以下の成果が得られた。まず、ジエチル(ビスホスフィン)パラジウム錯体と過剰のアクリル酸メチルとの反応で得られる0価のパラジウム錯体と過剰の炭酸ガスを反応させ、パラジウム(ビスホスフィン)二酸化炭素錯体をえた。IRおよびNMR分析により炭酸ガスはパラジウムにeta^2-サイドオン型で配位していることを明らかにした。この錯体を加熱すると配位炭酸ガスの酸素がホスフィンにより引き抜かれ、一酸化炭素とホスフィンオキシドが生成した。チオフェノールと反応させると配位炭酸ガスは一部還元され、ギ酸が生成していることが二酸化炭素錯体を形成し、配位二酸化炭素は還元剤により還元され、ギ酸が得られることが分かった。これらの情報に基づいて、パラジウム錯体による触媒的な炭酸ガスの還元を調べた。種々のパラジウム錯体について炭酸ガスと水素の反応を調べたところ、二価のパラジウム塩化合物で触媒的にギ酸が生成することが分かった。さらに、これらの研究のほか、パラジウム触媒存在下、二酸化炭素雰囲気下でアリルアルコールとアミンを反応させるとアリルアミンが穏和な条件下で生成していることを見い出した。この反応では炭酸_<pi->アリルパラジウムが中間に生成しているものと考えられる。
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