研究分担者 |
榊間 博 松下電器産業(株), 中央研究所, 主幹研究員
石田 巌 北海道大学, 工学部, 助手 (30001267)
岡田 亜記良 北海道大学, 工学部, 助教授 (40001341)
武笠 幸一 北海道大学, 工学部, 教授 (00001280)
池田 正幸 北海道大学, 工学部, 教授 (50212783)
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研究概要 |
1.超高真空薄膜蒸着装置による10原子層程度の極めて薄い膜(超薄膜)からなる多層膜の作製.10^<-10>Torrで,3個のEB-蒸着源からなり,基板1インチ径,基板温度(室温〜200℃)で一層の膜厚1nm(精度1Å)の超薄膜からなる3d-遷移金属,金属人工格子を作製出来るようになった.薄膜X-線回折法や超強力X-線回折により多層膜の積層厚み精度,Texture等を解析した.今後は単結晶を基板としたEpitaxial膜を検討する. 2.3d-遷移金属超薄膜人工格子における異常物性. 一層の膜厚が1nmの超薄膜からなるCo/Mn-系およびCo/Cr-系金属人工格子では,バルクのCoに較べて数倍の巨大磁化が観測された.また巨大磁化の出現に関して,熱ならびに磁気覆歴現象があり、人工格子の構造と巨大磁化の発生条件について研究を進めている.この知見は金属の磁性ならびに物性に関して新しい局面を拓くものである.この研究は平成6年度の日本金属学会年会ならびに第2回金属多層膜国際会議(英国)において発表を予定している. 3.巨大磁気抵抗効果(GMR)素子. 金属多層膜人工格子のGMR-素子の研究は,その後Ni/A1_20_3/X-系のバルブ素子検討に移っている.またMR-素子の動作と関連してLorentz法による微小素子の磁区観察をおこなっている.
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