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1993 年度 実績報告書

広圧力帯域用スパッタイオンポンプの試作研究

研究課題

研究課題/領域番号 05555011
研究機関鈴鹿工業高等専門学校

研究代表者

船戸 康幸  鈴鹿工業高等専門学校, 電子情報工学科, 教授 (10005358)

研究分担者 高木 望  日本真空技術(株), 超高真空事業部, 室長
虫明 基  川崎医科大学, 物理教室, 助手 (50122453)
久保田 雄輔  核融合科学研究所, 大型ヘリカル研究部, 助手 (50023726)
赤石 憲也  核融合科学研究所, 大型ヘリカル研究部, 助教授 (90023720)
長嶋 孝好  鈴鹿工業高等専門学校, 電子情報工学科, 講師 (30237515)
キーワードスパッタポンプ / 広圧力帯域 / 六ほう化ランタン / グロー放電 / 四重極質量分析計 / 膜評価 / イオンポンプ / クリーン真空
研究概要

5年度においては,六ホウ化ランタンをスパッタ陰極材料としたイオンポンプの試作のための基礎実験を開始した。現有のSUS‐304真空容器を用いて,付随する粗引系ポンプ,立ち上げのためのターボモレキュラーポンプの整備を行なった。ポンプ容器(6インチ・200mm長さ)は超高真空用とし,真空前処理をほどこしている。2.LaB_6陰極,ステンレス陽極を脱着可能な構造として,LaB_6陰極のスパッタ実験を行なった。スパッタ効率を上げるため,永久磁石を用いて,ペニング放電配位の磁場を作っている。3.アルゴンガスをスパッタガスとし,圧力,放電電圧をパラメーターとしたグロー放電実験を繰り返した。これはイオンポンプの運転モードを決めるため必要である。電極形状,距離等は現時点においては必ずしも最適状態でないため,この実験を続行している。4.四重極質量分析計で分圧観測を行ない,H_2Oの排気速度を求めてポンプの基本性能を調べている。5.研究分担者間では打合せを本年度に3回開き,実験結果の検討を続けている。6.本研究では,六ホウ化ランタンをスパッタ陰極材料としている点に独創性があり,その物性特性を評価するために,SIMSによる生成膜の分析評価を行なった。
以上,LaB_6円盤を用いたアルゴングロー放電を行ない,その残留ガス分析の結果から,スパッタイオンポンプとしての基本特性を確かめた。なお,本年度の途中成果を“CHARACTERISTICS OF PENNING TYPEDISCHARGE WITH LaB_6 CATHODEFOR SPUTTER ION PUMP"Proc.Int.Conf.Phen.in Ionized Gases(Bochum)Sep.19.1993.,において発表した。

  • 研究成果

    (6件)

すべて その他

すべて 文献書誌 (6件)

  • [文献書誌] Y.Funato: "CHARACTERISTICS OF PENNING TYPE DISCHARGE WITH LaB_6 CATHODE FOR SPUTTER ION PUMP" Proc.of 21the Int.Conf.on Phenomena in Ionized Gases. Vol.11. 317-318 (1993)

  • [文献書誌] Yasuyuki Funato: "Characteristics of ECR Plasma Assisted Bucket Ion Source" MEMOIRS OF Suzuka College of Technonogy. 26,1. 109-116 (1993)

  • [文献書誌] K.Akaishi: "Measurement of Outgassing Rate of Multilayer Insulation Material for LHD‐Coil System" Ann.Rep.of National Institute for Fusion Science. Mar.1993. 16-16 (1993)

  • [文献書誌] Motoi Mushiaki: "LaB_6 coating to reduce the outgassing rate of a vacuum wall" Materials Science and Engneering. A163. 177-179 (1993)

  • [文献書誌] Takahiro Mori: "Pumping experiment of water on B and LaB_8 films with clcctron beam evaporator" Journal of Nuclear Materials. 200. 385-388 (1993)

  • [文献書誌] 森 貴叙: "ボロン蒸発による酸素不純物制御" 真空. 35,7. 642-645 (1993)

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公開日: 1995-03-23   更新日: 2016-04-21  

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