| 研究課題/領域番号 |
05555014
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| 研究機関 | 大阪大学 |
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研究代表者 |
春名 正光 大阪大学, 工学部, 助教授 (20029333)
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| 研究分担者 |
裏 升吾 大阪大学, 工学部, 助手 (10193955)
西原 浩 大阪大学, 工学部, 教授 (00029018)
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| キーワード | 集積光学 / レーザビーム描画装置 / 光デバイス |
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| 研究概要 |
本年度は、これまで蓄積した集積光学の技術・装置を統合して新たな高精細レーザビーム(LB)描画装置を設計・試作し、実際に光集積デバイスを描画・作製して装置の基本性能を評価した。
1.クローズドループ制御X-Y微動ステージ、442-nmHe-Cdレーザ集光・変調光学系、信号処理回路を整備・統合して、精度0.1μm、描画速度<1.5mm/秒、速度揺らぎ<5×10^<-4>で4インチ基板用LB描画装置を試作した。
2.導波路間隔1〜3μmの方向性結合器および周期Λ〜10μmのくし形電極を描画・作製し、試作したLB描画装置が所定の性能を有することを確認し、これらの結果を論文発表した。
3.上記の結果をもとに、LiNbO_3を基板とするTE-TMモード変換形波長フィルタとその集積化、異種導波路方向性結合器形ビームスプリッタ、希土類ドープ導波路レーザ/増幅素子を提案、作製・評価し、論文発表した。
4.He-Cdレーザを光源とするLB描画については、分解能0.02μm、描画速度>10mm/秒、描画面積>20×20cm^2なる実用装置の検討・開発に着手し、現在描画性能の評価に基づき装置改良中である。
5.ArレーザによるTi選択熱酸化を含むレーザ誘起熱・化学反応を利用したLB描画・加工の基礎的検討と装置設計を行なっている。
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