| 研究課題/領域番号 |
05555044
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| 研究機関 | 大阪大学 |
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研究代表者 |
片岡 俊彦 大阪大学, 工学部, 教授 (50029328)
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| 研究分担者 |
山内 和人 大阪大学, 工学部, 助教授 (10174575)
遠藤 勝義 大阪大学, 工学部, 助教授 (90152008)
森 勇藏 大阪大学, 工学部, 教授 (00029125)
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| キーワード | 近接場 / レーザ / 光による微細加工 / 微小突起 / フォトレジスト / 高分解能 |
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| 研究概要 |
1)装置の設計・試作
光の近接場による微細加工を行うための装置の設計試作を行った。透明基板上に突起をつけ、基板側から全反射角で入射し基板界面に形成されるエヴァネッセント波で突起を照明することによって、その周りに急激な電界強度分布を作る。この電場を利用して、フォトレジストの感光、さらに薄膜形成、エッチング等の微細加工を行う。そのため、装置に要求される条件は、試料を走査して微細加工を行っていくための高い精度を持つ試料走査系、急激な電界強度分布を形成するための基板上の微小な突起、試料が突起周辺の近接場に入ったかどうかを確認するための突起部からの微弱光を高感度に検出する光検出系、などである。試料が突起周辺の近接場にはいると突起部から近接場による光が放射されることになるので、作製した試料が以上の条件を満たしているかどうかを、走査型顕微鏡としての使用により確認した。その結果、装置は縦方向分解能2nm以下、横方向分解能10nm以下という値が得られ、近接場による微細加工においてこの程度の装置の空間分解能で行うことができることを確認した。
2)近接場による加工
基板上の微小突起まわりの電界強度分布を利用して微細加工を行う。まず、半導体のパターン形成に使用されているフォトレジストを微小突起周辺の近接場によって感光させた。しかしフォトレジスト表面にはパーティクルの付着が見られ、微小スポットを形成することができてもそのスポットの大きさや形状の確認をすることが困難であった。この問題は加工中の雰囲気に原因があると思われ、よりクリーン度の高い雰囲気を必要とすることが判明した。
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